磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析_许小亮.pdfVIP

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2017-06-01 发布于浙江
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磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析_许小亮.pdf

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磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析_许小亮

1216 2006 8 (37) * 1,2 1,2 1,2 1,2 1, 2 许小亮 , 王烨 , 赵亚丽 , 牟威圩 ,施朝淑 ( 1. , 230026; 2. , 230026) : 通过直流溅射沉积法在玻璃衬底上制备 ;, 不同生长条件下的纳米金薄膜, 利用 X 射线衍射 , (XRD) 和原子力显微镜(AFM) 对其进行表面形貌分 ,, , 析XRD 图显示Au 膜具有( 111) 面择优取向; AFM [ 14] 图显示,在不同的生长阶段Au 膜具有不同的表面微结构总结不同的工艺条件对薄膜晶粒生长的影 2 响,这项研究对实现金属薄膜的可控性生长有重要意 Au , 义 ,5 , : ; ; ; - 3 - 2 10 ~ 10 Pa, 0.26kV, 25mA : O782.9 : A , 6. 5~ 10W, : 1001-9731(2006) 08-1216-04 3612 24nm 1 , : , , ,, [ 1, 2] ,1 ( SP) , 2 6 [3,4] 1 10 ~ 10 , Table 1 Different growth conditions of the nano-Au films 厚度 Ar 气压温度功率 [5] 样品号 SP , (nm) ( Pa) ( ) ( W) SP , 1 3, 6, 12, 24 3.0 200 8.7 SP 2 12 0. 5, 1. 0, 200 6.5 [6~ 14] , 3.0, 6. 0 RT, 150,200, 3 : 3 12 3.0 250,300 10.0 [6] 3 XRD AFM ,