PCB电镀铜锡工艺(程师培训资料)剖析.ppt

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PCB电镀铜锡工艺(程师培训资料)剖析

电镀线药液配制及保养方法 电镀线药液配制及保养方法 电镀线药液配制及保养方法 电镀线设备保养方法 电镀线设备保养方法 电镀线设备保养方法 电镀线设备保养方法 问题及解决方法 电镀铜问题及解决方法 问题1. 各镀铜层间附着力不良 问题2. 二次铜(线路镀铜)出现局部漏镀或阶梯镀 问题3. 板子正反两面镀层厚度不均 问题4. 镀层过薄 问题5. 全板面镀铜之厚度分布不均 问题6. 镀液槽面起泡 问题7. 通孔铜壁出现破铜 问题8. 镀铜层烧焦 问题9. 镀铜层表面长瘤 问题10. 镀铜层出现凹点 问题11. 镀层厚度分布不均匀 问题12. 镀层出现条纹状 问题13. 镀层脆裂 问题14. 镀层抗拉强度过低 问题15. 镀层晶格结构过大 问题16. 无机物污染 问题17. 添加剂未能发挥应有功用 问题18. 添加剂消耗过快 ? 问题1. 各镀铜层间附着力不良 ? 问题1. 各镀铜层间附着力不良 (续) ? 问题2. 二次铜(线路镀铜)出现局部漏镀或阶梯镀 ?问题2. 二次铜(线路镀铜)出现局部漏镀或阶梯镀(续) ?问题3. 板子正反两面镀层厚度不均 ? 问题4. 镀层过薄 ? 问题5. 全板面镀铜之厚度分布不均 ? 问题5. 全板面镀铜之厚度分布不均(续) ? 问题6. 镀液槽面起泡 ? 问题7. 通孔铜壁出现破洞 ? 问题7. 通孔铜壁出现破洞(续) ? 问题8. 镀铜层烧焦 ? 问题8. 镀铜层烧焦(续) 电镀铜溶液的控制 ? 赫尔槽试验 (Hull Cell Test) 阴极- 阳极+ 电镀铜溶液的控制 ? 赫尔槽试验(Hull Cell Test)参数 — 电流: 2A — 时间: 10分钟 — 搅拌: 空气搅拌 — 温度: 室温 电镀铜溶液的控制 ? 赫尔槽试验(Hull Cell Test) 高电流密度区烧焦,中高电流密度区无光泽----Copper Gleam 125T-2(CH) Additive 非常低 改正方法:添加2-3ml/l Copper Gleam 125T-2(CH) Additive 电镀铜溶液的控制 ? 赫尔槽试验(Hull Cell Test) 仅高电流密度区烧焦,试片的其它区域仍然正常----Copper Gleam 125T-2(CH) Additive 低 改正方法:添加1ml/l Copper Gleam 125T-2(CH) Additive 电镀铜溶液的控制 ? 赫尔槽试验(Hull Cell Test) 高电流密度区呈不适当氯离子含量条纹沉积,整个试片光亮度降低 改正方法:分析氯离子含量,如有需要请作调整 电镀铜溶液的控制 ? 赫尔槽试验(Hull Cell Test) 严重污染 改正方法:添加3-10ml/l 125T-2(CH) Additive 对抑制此现象可能有帮助. 溶液必须安排作活性炭处理 电镀工艺过程 流程说明 流程说明 电镀工艺过程 电镀铜工艺过程 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 Copper Gleam 125T-2(CH)铜添加剂 电镀线配线及设备保养方法 电镀线配线方法 电镀线配线方法 电镀线配线方法 电镀线配线方法 电镀线配线方法 电镀线配线方法 电镀线配线方法 电镀线药液配制及保养方法 电镀线药液配制及保养方法 电镀线药液配制及保养方法 电镀线药液配制及保养方法 电镀线药液配制及保养方法 * 电镀铜/锡工艺 大多数化学品具有 某些化学品具有 当混合某些化学品时 当干燥或混合某些化学品时 “如有疑问需查证” 工业安全 电镀铜工艺 电镀铜工艺 铜的特性 铜,元素符号Cu,原子量63.5,密度8.89克/立方厘米,Cu2+的电化当量1.186克/安时. 铜具有良好的导电性和良好的机械性能. 铜容易活化,能够与其他金属镀层形成良好的金属--金属间键合,从而获得镀层间的良好结合力. 电镀铜工艺的功能 电镀铜工艺 在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电性/厚度及防止导电电路出现热和机械缺陷. 电镀铜工艺的功能 电镀铜层的作用 作为孔的化学沉铜层的加厚层,通过全板镀

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