PVD沉积简介剖析.pptxVIP

2017-6-1 1 薄膜材料的生长方法——PVD沉积法 Physical Vapor Deposition PVD小组： 陈宇阳 刘涛 董宁钢 骆宗艳 2017-6-1 2 1、从正装LED结构了解PVD 2、PVD 简介 3、PVD 原理及方法 4、PVD—离子镀膜法 目 录 2017-6-1 3 从正装LED结构了解PVD 2017-6-1 4 PVD简介 2017-6-1 5 PVD 简介 真空镀膜法：是一类重要的优秀制膜方法，它在微电子、电子材料与元器件等电子工业，钟表工业，照相机等光学工业，窗玻璃等建材工业中已经成为一项不可缺少的重要技术。此外，在以电子信息产业为代表的高新技术中，真空镀膜技术起着举足轻重的作用。 PVD简介 2017-6-1 6 PVD 简介 PVD 第一类 蒸发 (Evaporation) 脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition) 第二类 溅射 (Sputtering) 离子镀 (Ion plating) PVD沉积概念：利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移的过程。 2017-6-1 7 种 类 方法 具体方法 应用 PVD沉积 真空蒸镀法 热蒸镀 电子束蒸发 脉冲激光沉积 蒸镀金属、SiO2、某些半导体薄膜等 溅射