PZT铁电薄膜材料的制备技术.docx

PZT铁电薄膜材料的制备技术铁电薄膜材料背景综述薄膜和层状结构工艺的进步对于集成电路和光电子器件的发展是至关重要的[1]。铁电薄膜是指具有铁电性、且厚度在数十纳米至数微米问的薄膜。铁电材料的研究一般被认为是始于1920年，法国人发现了罗息盐，即酒石酸钾钠(NaKC4H4O64H2O)，在外电场E作用下，其极化强度P有如图1所示滞后回线关系，表现出特殊的非线性介电行为。由于图1的P-E关系曲线有和铁磁体的关系曲线相类似的特点，因而P-E关系被称为电滞回线(Hysteresisloop)拥有这种特性的晶体被称为“铁电体”，相应的材料被称为“铁电材料”[2]。随后发现了相似结构的KH2PO4系列；1940～1958年，发现了第一个不含氢键，具有多个铁电相的铁电体BaTiO3；1959年到上世纪70年代，包括钙钛矿结构的PbTiO3系列、钨青铜结构的铌酸盐系列等在内的大量铁电体被发现，也是铁电的软模理论出现并基本完善的时期；上世纪80年代至今，铁电体的研究主要集中于铁电液晶、聚合物复合铁电材料、薄膜材料和异质结构等非均匀系统。图1 电滞回线图以锆钛酸铅Pb(Zr1-xTix)O3(简称PZT)为代表的一大类铁电压电功能薄膜材料因其具有良好的压电、铁电、热释电、电光及非线性光学等特性，在微电子和光电子技术领域有着广阔的应用前景，受到人们的广泛关注和重视[3-8]。几乎所有的铁电体材料均可通过