煅烧温度对阳极氧化WO3多孔薄膜的形貌及光电化学性能的影响.pdfVIP

物理化学学报 (WuliHuaxueXuebao) April ActaP ．一Chim．Sin．2012，28(4)，865—870 865 [Article】 doi：10．3866／PKU．WHXB201202152 www．whxb．pku．edu．cn 煅烧温度对阳极氧化WO3多孑L薄膜的形貌及光电化学性能的影响 黄 晔 刘昱阳 李文章 陈启元 (中南大学化学化工学院，有色金属资源化学教育部重点实验室，长沙410083) 摘要： 采用一步式阶跃 电压加压方法，存NHF／(NH)zSO 电解质溶液中对W 片进行阳极氧化处理制备了 WO。多孔薄膜，通过后续热处理温度的控制，制备了性能规律性变化的WO。多孔纳米薄膜材料．用场发射扫描 电镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)分析等手段考察了热处理温度对氧化钨晶体结构和形貌影响的规律，在 450。C以下的煅烧温度下，薄膜保持50—10Onm孔径；通过对光电化学性质、光催化降解甲基橙动力学行为的 研究，考察了不同热处理温度对WO。多孔薄膜光电转换性能影响的规律．研究表明，450。C煅烧处理后的WO3 薄膜在500W氙灯光源照射及 1．2V偏压下，光电流密度达到5．11mA ·cm ：340及400nm单色光辐射下光 电转换效率(IPCE)值分别达到87．4％及22．1％．电化学交流阻抗谱显示，450。C煅烧处理后的WO3薄膜表现 出最佳的导电率及最小的界面电荷转移电阻．实验结果证明，高结晶度的多孔结构是WO。薄膜具有高光 电转换 效率的主要因素，控制热处理温度是实现薄膜具有高孔隙率、完整结晶度、低电阻的重要手段． 关键词： 三氧化钨多孔薄膜：光电化学性质：光降解： 光电转换效率 中图分类号： 0646 EffectsofCalcinationTemperatureonMorphologiesand PhotoelectrochemicalPropertiesofAnodizedW O3NanoporousFilms HUANGYe LIUYu—Yang LIWen—Zhang CHENQi—Yuan (KeyLaboratoryofResourcesChemistryofNonferrousMetals(Ministry 、Education)，SchoolofChemistryand ChemicalEngineering,CentralSouthUniversity,Changsha410083，PR．China) Abstract： Visible—light．responsiveWO3porousfilmswere synthesized viastep-voltage anodization in NHF／(NH412SO4solution and calcinedatvarioustemperatures．The crystalline phaseand surface morphologywere characterizedusingX-raydiffraction (XRD)andfield emission scanning electron microscopyrFE-SEM)．The as—anodized nanoporousfilmsconverted loa monoclinicphase with preferentialorientationinlhe(020)planes，andtheporediametersofthe俐mscalcinedbelow450。Cwere estimatedtobeintheregionof50—100nm ．Thephotocatalyticactivi