实验19椭偏仪测量薄膜厚度和折射率.pdf

实验 19 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 当样品对光存在着强烈吸收（如金属）或者待测薄膜厚度远远小于光的波长时，通常用 来测量折射率的几何光学方法和测量薄膜厚度的干涉法均不再适用。这里介绍一种用反射型 椭偏仪测量折射率和薄膜厚度的方法。用反射型椭偏仪可以测量金属的复折射率，并且可以 测量很薄的薄膜（几十埃），当把它安装在超高真空系统上时，可对从准单原子层开始的薄 膜生长过程和其反过程——薄膜的溅射刻蚀过程进行即时监测。反射型椭偏仪又称为表面椭 偏仪，它在表面科学研究中是一个很重要的工具。 [预习提要] （1）、椭偏仪的结构和使用方法是怎样的？ （2）、椭偏仪的基本原理是什么？ （3）、椭偏仪的用途和特点是什么？ [实验要求] （1）、进一步掌握椭偏仪的基本原理。 （2）、熟悉椭偏仪的结构和操作方法。 （3）、掌握处理实验数据的查表方法。 [实验目的] （1）测量玻璃基底上的薄膜的厚度和折射率。 （2）测量金属的复折射率。 [实验器材] 椭偏仪整机、激光电源、6-8 伏变压器、（Δ；ψ）~ （n;a）关系表。 [实验原理] 反射型椭偏仪的基本原理是，用一束椭圆偏振光做为探针照射到样品上，由于样品对入 射光中平行于入射面的电场分量（以下简称 P 分量）和垂直于入射面的电场分量（以下简称 S 分量）有不同的反射、透射系数，因此从样品上出射的光，其偏振状态相对于入射光要发 生变化。 一、 测量原理 如图 5-19-1 所示，入射光可分为 E 和 E 两个分量，经过折射和反射之后，总的 1S 1P  E = E + E + E + !! ‘ ‘  S 1S 2S 3S 反射光也可分为 E 和 E 两个分量。 (5 − 19− 1) S P   E = E + E + E + !! 1 2 3  P P P P 1 E1P ’ ’ E 1P E 2P E’3P ’ E 4P θ θ 1 介质 n1 E1S 1 ’ ’ ’ ’ E 1S E 2S E 3S E 4S 薄膜 n2 θ d 2