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第四章 薄膜生长技术 4.1 物理淀积：蒸发和溅射 主要内容 4.1.1 蒸发概念与机理 4.1.2 常用蒸发技术 4.1.3 溅射概念与机理 4.1.4 常用溅射技术 薄膜制造 物理淀积 蒸发Evaporation 溅射Sputtering 化学淀积CVD APCVD LPCVD HDCVD