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.基本薄膜材料 黃中波 摘抄總結 名稱：釔（Y） 三氧化二釔（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率在約為1??8。用作鋁保護膜其極受歡迎，特別相對於8000nm—12000nm區域高入射角而言。可用作眼鏡保護膜，且24小時暴露在濕氣中。一般為顆粒狀和片狀。 透光範圍（nm） N （500nm） 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 蒸汽成份 250-8000 1?79 2300-2500 電子槍 防反膜 名稱：二氧化鈰（CeO2 使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個約為 2?2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發生顯著變化，在300℃基板上500nm區域n =2?45，在波長短過400nm時有吸收，傳統方法蒸發缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n =2?3（550nm）的低吸收性薄膜。一般為顆粒狀。還可用於增透膜和濾光片等。由于其热辐射较少,在PMMA上镀膜可以优先该材料做为高折射率材料. 透光範圍（nm） N （500nm） 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量 400-16000 2?35 約2000 電子槍 增透膜 多 名稱：氧化鎂（MgO） 必須使用電子槍蒸發因該材料昇華，堅硬耐久且有良好的紫外線（UV）穿透性。250nm n =1?86， 190nm n =2?06， 166nm時K值為0?1，n =2?65，可能用作紫外線薄膜材料。Mg/MgF2膜堆從200nm—400nm 區域透過性良好，但膜層被限制在60層以內（由於膜應力）500nm時環境溫度基板上得到n =1?70，而在300℃基板上得到n =1?74。由於大氣CO2的干擾，MgO暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層，可成功使用傳統的MHL折射率3層AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。 名稱：硫化鋅（ZnS） 折射率2?35，400—13000的透光範圍，、具有良好的應力和良好的環境耐久性，ZnS在高溫蒸著時極易昇華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層，因此需要徹底清爐並且在最高溫度下烘乾，花數小時才能把鋅的不良效果消除。Hass等人稱紫外線（UV）對ZnS有較大影響，由於紫外線在大氣中導致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅（ZnO）。 透光範圍（nm） N （550nm） 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 方式 400-14000 2?45 1000-1100 電子槍鉬鉭舟 昇華 應用：分光膜，泠光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜,据国内光学厂资深老工程师讲,常年使用用ZNS的机器基本上五年后真空腔被腐蚀殆尽.尽管如此,在一些小作坊工厂因其易蒸发,低成本等原因仍被广泛使用, 名稱：氟化釷（ThF4） 260nm—12000nm以上的光譜區域，是一種優秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區n從 1?52降到1?38（1000nm區域）在短波長趨近於1?6，蒸發溫度比MgF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免ThF4良性顆粒火星飛濺出去，而且形成的薄膜似乎比MgF2薄膜更加堅固。該膜在IR光譜區3000nm水帶幾乎沒有吸收，這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性。在8000到12000nm完全沒有材料可替代。 名稱：二氧化鈦（TiO2） TiO2由於它的高折射率和相對堅固性，人們喜歡把這種高折射率材料用於可見光和近紅外線區域，但是它本身又難以得到一個穩定的結果。TiO2，Ti3O5，Ti2O3，TiO及Ti，這些原材料氧—鈦原子的模擬比率分別為：2?0，1?67，1?5，1?0，0，後發現比率為1?67的材料比較穩定並且大約在550nm生成一個重復性折射率為2?21的堅固的膜層，比率為2材料的第一層産生一個大約2?06的折射率，後面的膜層折射率接近2?21。比率為 1?0的材料需要7個膜層將折射率2?38降到2?21。2?63， 昇華 無色顆粒狀，折射率穩定，放氣量少，和OS-10等高折射率材料組合製備截止膜，濾光片等。 名稱：一氧化硅（SIO） 透光範圍（nm） N （550nm） 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 方式 600-8000 1?55at550nm 1?8at1000nm 1?6at7000nm 1200-1600 電子槍鉬鉭舟 冷光膜 裝飾膜 保護膜 昇華 制程特性：棕褐色粉狀或細塊狀。 熔點較低，可用鉬舟或鈦舟蒸蒸日上發，但需用加蓋舟因為此種材料受熱直接昇華。 使用電子槍加熱時不能將電子束直接打在材料上而採用間接加熱法。 製備塑膠鏡片時，一般第一層是SIO，可以增加膜的附著力。 名稱：OH-5（TIO2+ZrO2） 透光範圍（nm）