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1.1 半导体二极管 1.2 半导体三极管 1.3 场效应管 1.4 晶闸管 现在,我们对MOS管的符号再作进一步说明。 在图1.3.6(b)、(c)和图1.3.10(a)、(b)中画出了四种类型MOS管各自的符号。在N沟道MOS管符号中,衬底上的箭头是向内的(由P型衬底指向N型沟道);而在P沟道MOS管的符号中,衬底上的箭头是向外的,(由P型沟道指向N型衬底)。 在增强型MOS管的符号中,S、D和衬底U之间是断开的,表示UGS=0时导电沟道没有形成;在耗尽型MOS管的符号中,S、D和U是连在一起的,表示UGS=0时导电沟道业已存在。此外,在集成电路中,如无需区别沟道类型、工作型式时,MOS管可采用图1.3.12所示的简化符号。 1.3.3 场效应管的主要参数 (1) 开启电压UGS(th): 当UDS为常数时,形成ID所需的最小|UGS|值,称开启电压。 (2) 夹断电压 U GS(off): 在UDS固定时,使ID为某一微小电流(如1μA、10μA)所需的UGS值。 (3) 低频跨导gm: UDS为定值时,漏极电流ID的变化量ΔID与引起这个变化的栅源电压UGS的变化量ΔUGS的比值,即 (4) 漏源击穿电压U(BR)GS: 管子发生击穿,ID急剧上升时的UDS值;UDSU(BR)GS。 (5) 最大耗散功率PDM: PD=I DUDSPDM。不能超过PDM,否则要烧坏管子。 (6) 最大漏极电流IDM:管子工作时,ID不允许超过这个值。 1.3.4 场效应管与三极管的比较 (1) 场效应管是电压控制器件, 而三极管是电流控制器件, 但都可获得较大的电压放大倍数。 (2) 场效应管温度稳定性好, 三极管受温度影响较大。 (3) 场效应管制造工艺简单, 便于集成化, 适合制造大规模集成电路。 (4) 场效应管存放时,各个电极要短接在一起,防止外界静电感应电压过高时击穿绝缘层使其损坏。焊接时电烙铁应有良好的接地线, 防止感应电压对管子的损坏。 1.4.1 晶闸管的基本结构 晶闸管是在晶体管的基础上发展起来的一种大功率半导体器件, 由四层半导体P1、N1、P2、N2制成,形成三个PN结J1、 J2、 J3,如图1.4.1(a)所示。由最外的P1层引出的电极为阳极A,最外的N2层引出的电极为阴极K,由中间的P2层引出的电极为控制极G,然后用外壳封装起来,图1.4.1(b)为示意图。图1.4.1(c)是晶闸管的表示符号。 普通型晶闸管有螺栓式和平板式。图1.4.2 (a)是螺栓式晶闸管,图中带有螺栓的是阳极引出端,同时可以利用它固定散热片,另一端较粗的一根是阴极引出线,另一根较细的是控制极引出线。图1.4.2 (b)是平板式晶闸管,中间金属环是控制极,用一根导线引出,靠近控制极的平面是阴极, 另一面则为阳极。 1.4.2晶闸管的工作原理 为了说明晶闸管的工作原理, 把晶闸管看成由一个NPN型的晶体管V1和一个PNP型晶体管V2两个晶体管联接而成, 阴极K相当于V1的发射极,阳极A相当于V2的发射极,中间的P2层和N1层为两管共用,第一个晶体管的基极与另一个晶体管的集电极相联接,如图1.4.3所示。 (1) 控制极不加电压(开路),当阳极A和阴极K之间加正向电压(A为高电位,K为低电位)时,由图1.4.3可知,PN结J1和J3处于正向偏置,J2处于反向偏置,且IG=0,故V1不能导通,晶闸管处于截止状态(称阻断状态); 根据给定的PCM值可以作出一条PCM曲线如图1.2.12所示, 由PCM、ICM和U(BR)CEO包围的区域为三极管安全工作区。 例 2.1在图1.2.6所示电路中, 若选用3DG6D型号的三极管, (1)电源电压UCC最大不得超过多少伏? (2)根据IC≤I CM的要求,RP2电阻最小不得小于多少千欧姆? 解:查表,3DG6D参数是:ICM=20mA, U(BR)CEO=30V, PCM=100mW。 (1)UCC= (2)UCE=UCC-ICRP2 IC= 其中,UCE最低一般为0.5V,故可略。由IC<ICM,所以
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