薄膜技巧.doc

1、真空：在给定的空间内压力低于一个大气压的稀薄气体状态。 2、真空度单位; 注意看书P2 获得途径：机械泵（抽气速率、极限真空度）、扩散泵（抽气速率、极限真空度、返油率） 分子泵 一般机械泵的极限真空度为0.1Pa 5、扩散泵注意事项：1）、不能单独工作，一定要用机械泵做前级泵，并使系统抽到0.1帕才能启动。2）、泵体要竖直3)、先通冷却水，再加热，结束时先停止加热后关冷却水。 4、测量：热电偶真空计（利用热电偶测定温度变化引起电动势变化的真空计） 电阻真空计 热（冷）阴极电离真空计 热电偶真空计原理看书P11 5、1Pa=7.5×10∧(-3)Torr 1Torr=1mmHg 6、真空薄膜的质量与材料、薄膜工艺以及真空系统的质量有关。 7、保持较高真空度原因：1）、减少蒸发分子与残余气体分子碰撞2）、抑制它们之间的反应，减少对衬底表面的玷污 二、1、物理气相沉积（PVD）是指在一定的真空条件下，利用热蒸发或辉光放电或弧光放电等物理过程使材料沉积在衬底上的薄膜制备技术。主要分为三类：真空蒸发镀膜 真空溅射镀膜 真空离子镀膜 2、真空蒸镀：将固体材料置于高真空环境中加热，使之升华或蒸发并沉积在特定衬底上以获得薄膜的方法 3、真空镀膜过程：1）源材料受热熔化蒸发或升华； 2）蒸气从源材料传输到衬底； 3)蒸气在衬底表面凝结成固体薄膜 4、蒸发种类：电阻热蒸发、电子束蒸发（直枪、e形枪）高频感应蒸发、激光束蒸发 5、热蒸发：蒸发材料在真空室中被加热时，其原子或分子就会从表面逸出的现象。 6、饱和蒸气压：在一定温度下，真空室中蒸发材料的蒸气在与固体和液体平衡过程中所表现出的压力。 7、由P21的图2--1可知P20的最后6行 自己看书 8、电子束蒸发：将蒸发材料置于水冷坩埚中，利用电子束直接加热，使蒸发材料汽化并在衬底上凝结形成薄膜的方法。 产生电子束的装置称为电子枪，可分为：环形枪 直枪 e形枪 9、应用：CIGS薄膜（极高的光吸收率、良好的室外稳定性） 根据掺入Ga含量的不同，可以扩大CIS的带隙，进一步提高光吸收率 ITO薄膜（宽带隙、重掺n型半导体材料高可见光透过率、低电阻率）在太阳能电池，平板显示器、电致变色窗、激光二极管、和紫外探测器应用广泛。 制备方法：脉冲激光沉积 溅射 化学气相沉积 溶胶-凝胶 蒸发等，其中蒸发中最常用的为电子束蒸发。 三、1、溅射：荷能粒子轰击固体表面，固体表面原子或分子获得入射粒子所携带的部分能量，从而使其射出的现象。 αdαdαd 2、非自持转化为自持条件： γ(e -1)=1 物理意义：在阴极发射出一个电子，而这一个电子到达阳极时共发生了e -1次电离碰撞因而产生同样数目的正离子，而这些正离子打到阴极后将产生 αd αd αd 1 3、溅射利用的是异常辉光放电 4、级联碰撞理论：入射粒子在进入靶材的过程中与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分动能会传给靶材原子，当后者的动能超过其周围存在的其他靶材原子所形成的势垒时，这种原子会从晶格阵点被碰出，产生离位原子，并进一步和附近的靶材原子依次反复碰撞，产生所谓的级联碰撞。 5、溅射参数：溅射阈（入射离子使阴极靶产生溅射所需的最小能量） 溅射产额（正离子撞击阴极时，平均每个正离子能从阴极打出的原子数） 6、溅射装置：阴极溅射、射频溅射1）直接溅射绝缘介质2）射频电场和磁场正交 磁控溅射（低气压下进行高速溅射） 7、P39的图3-4以及图上面的对其解释一段文字，自己看书 8、射频溅射：又称高频溅射，它是为直接溅射绝缘介质材料而设计的。前面的方法是利用金属、半导体靶制备薄膜的方法，但不能用来溅射介质绝缘材料，这主要是因为正离子打到靶材上产生正电荷积累而使表面电位升高，致使正离子不能继续轰击靶材而终止溅射。 9、射频装置是使射频电场和磁场重叠在射频电极上再施加直流偏压而得到。 10、磁控溅射是把磁控原理与普通溅射技术相结合，利用磁场特殊分布控制电场中的电子运动轨迹。 由于电子在正交磁场中由直线变成了螺旋线运动，大大增加了与气体分子分子碰撞的几率，使离化率得以大幅度提高。见图3-14（P48） 11、离子镀成膜：在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸