高功率微波介质击穿中X射线和紫外线的初步诊断.pdfVIP

第 23 卷第 7 期 强激光与粒子束 Vo l. 23 , No.7 2011 年 7 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Ju l. , 2011 文章编号: 1001-4322(2011)07-1913-04 高功率微波介质击穿中 X 射线和紫外线的初步诊断 秋实，刘国沽，张治强，侯青，张庆元 (西北核技术研究所，西安 710024) 摘 要: 研制了一套宽光谱探测系统，该系统包括紫外成像探测器和 X 射线成像探测器两个工作单元。 利用该系统对高功率微波(HPM)源运行及聚四氟乙烯介质窗受微波场作用而发生击穿时实验环境中的紫外 线和 X 射线进行了初步诊断。结果表明:HPM 源运行参数为重复频率 100 Hz，运行时间 5 5 ，介质窗未发生击 2 3 穿时，微波源二极管区产生的 X 射线