B12031413_孙豪_低温Ni-p化学镀研究.docxVIP

低温Ni-P化学镀工艺研究摘要在本篇论文中我们主要研究了络合剂柠檬酸三钠，焦磷酸钠，加速剂氟化钠，丙酸，丁二算等配置溶液在低温化学镀镍中对沉淀镀层的性能的影响；讨论了影响化学镀镀速的主要因素包括加速剂和其它各主要组分，化学镀施镀温度、镀液的 pH 值等工艺条件。利用电子显微分析方法研究了镀层的成份及微观形貌，利用显微硬度仪对化学镀镍镀层的表面硬度进行测定，此外还检测了镀层的结合力、孔隙率及耐蚀性能。通过以上分析提出种以柠檬酸三钠为络合剂，以丁二酸为加速剂的低温碱性化学镀镍工艺配方及优化的工艺条件。用此工艺可以能在 40℃的较低温度下制得较好镀层。研究结果还显示，不同的配方和工艺条件对化学镀镍的沉积速度有一定的影响。因此，在实际生产中，必须严格控制施镀的工艺条件，以确保镀层的各项性能均达到要求。关键词：低温化学镀镍沉积速度加速剂The Study Of Low Temperature ElectrolysesNickelPlatingTechnologyABSTRACTThe affects of key components and process conditions to low temperatureelectrolyses nickel plating rate were discussed. The rigidity, combiningpower, porosity a