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Al_Si合金Al_2O_3_ZrO_2微弧氧化涂层生长机理研究_赵玉厚
第 卷第 期 西 安 工 业 大 学 学 报
３３ ２ Ｖｏｌ．３３Ｎｏ．２
年 月 ’
２０１３ ２ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＸｉａｎＴｅｃｈｎｏｌｏ ｉｃａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔ Ｆｅｂ．２０１３
ｇ ｙ
文章编号： （ ）
１６７３９９６５２０１３０２１４００６
－ － －
合金 微弧氧化
ＡｌＳｉ ＡｌＯ
－ － ＺｒＯ
２ ３ ２
涂层生长机理研究＊
， ， ， ，
赵玉厚 王少青 王 萍 陈庆荣 米巧艳
（ ， ）
西安工业大学材料与化工学院 西安 ７１００２１
： ，
摘 要 为了解决ＡｌＯ 微弧氧化层不能满足 Ａｌ 合金使用要求的问题 采用微弧氧化法
２ ３ －Ｓｉ
， 、
在 合金表面制备了 复合膜层 通过 分析测试手段研究膜层的微
Ａｌ－Ｓｉ ＡｌＯ －ＺｒＯ ＳＥＭ ＸＲＤ
２ ３ ２
、 ： ，
观表面形貌 组织结构和相组成 结果显示 微弧氧化初期 陶瓷层生长速率较快且反应速率稳
．
， ； ， ；
定 反应后期陶瓷层生长速率减缓 陶瓷层微观表面形貌比较均匀 有部分放电微孔和裂纹 陶
瓷层与金属基体呈犬牙状交错结合； 、 、 、
陶瓷层的主要相组成是ｔ ｍ
－ＺｒＯ α?ＡｌＯ －ＺｒＯ γ?
２ ２ ３ ２
，
其中ｔ 为膜层主晶相 并根据实验结果研究了微弧氧化涂层的生长机理
ＡｌＯ －ＺｒＯ ． ．
２ ３ ２
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