陈光宇教授1--项目汇报光学元件冷加工工艺(应用)课案.doc

项目名称 项目单位 单位网站 项目单位 所行业 案例描述：大口径光学元件在冷加工完成后可以获得很高的表面质量，但是在亚表面层往往隐藏了大量的缺陷。因此，需要改进工艺达到消除亚表面缺陷的目的。 通过Pro/Innovator和ARIZ算法求解，此问题得到4个的解决方案。 关键词：光学元件、表面质量，亚表面缺陷，冷加工，检测 问题描述： 工作原理 大口径光学元件的冷加工工艺包括铣磨、精磨、初抛和精抛等工序，目的是获取很高的表面质量，但是在亚表面层往往隐藏了大量的缺陷。 主要问题 抛光工序会形成亚表面缺陷，同时不能用光学方法直接观察到的亚表面缺陷。 问题发生的条件 抛光工序在去除旧划痕的同时，不断地引入新划痕，然后被覆盖，形成亚表面缺陷。 初步思路或类似问题的解决方案 快速抛光、磁流变抛光。 待解决的问题 （1）抛光工艺不带入新的亚表面缺陷； （2）能检测亚表面缺陷。 对新技术系统的要求 消除亚表面缺陷； 无损检测亚表面缺陷。 解题流程 Pro/Innovator解题流程 运用Pro/Innovator模块（图1），包括系统分析、问题树、三轴分析、知识库 本题目属于工艺质量改进范畴。 图2 解题流程 Pro/Inno