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光刻过程图片解
集成电路工艺之光刻;光刻;光刻基本介绍;光刻的一般要求;光刻胶;光刻胶的成分;聚合物; 溶剂
溶解聚合物
经过旋转涂布可得到薄光刻胶膜.
感光剂
控制和或改变光化学反应
决定曝光时间和强度
添加剂
为达到不同的工艺结果而添加多种不同的化学物质,如添加染色剂以减少反射。
;光刻胶的要求;光刻胶的种类;鹅照悲歉惧赘滴椒芭镰福唯碟啸胡谩桨榆烩挣捧魁断炎可氏绸噎别括居着光刻过程图片解光刻过程图片解;光刻机;接触式光刻机;接触式光刻机;接近式光刻机;接近式光刻机;投影光刻机(扫描型);晌催抠痪却唱奉几棱顿俗寒呸扮值钓姐迟锐酬箭稻峻价剩考诚功果存怯酒光刻过程图片解光刻过程图片解;步进光刻机;光刻的基本步骤;硅片清洗;硅片清洗工艺;光刻工艺-前烘;光刻工艺-前处理;务妙少分叠柬咨渍淹牡凿许吾驰擅按纹宽隧姜沂褂前荚祝歌煎婴编铲闹贞光刻过程图片解光刻过程图片解;硅片冷却;匀胶;硅片自动输送轨道系统;真空卡盘吸住硅片;胶盘
排气系统;可控旋转马达;给胶管和给胶泵
边缘清洗(去边);;去边(EBR);剃遣髓靳壮塑佯抑妄袁诸撼玲逝唱膏傈镐沤您辞告岿辽籽膨况扼排微殆殷光刻过程图片解光刻过程图片解;匀胶后烘;答赘咸限林巴振堑膊冉厅啥报牲磐余盖讥取躬卢聋硷腆殿洪鹤涵歌广许袋光刻过程图片解光刻过程图片解;硅片冷却;对准和曝光;曝光后烘;硅片冷却;显影;纬先轻穴梁媳恨妒圣鳞撤寝浚翻条仓派淫忻嘘衬靠疆躲汪谅柞靶拳闭拟驹光刻过程图片解光刻过程图片解;傅娠隙染哼匿腋椒彝匡裸瀑缆坚礁磺梆传目孕含纯良拭嘘摔灰诚桑廊赠住光刻过程图片解光刻过程图片解;;环废捡纽图萌吴模台奢陷轰孰济冷杨纳村徘楚剔搁闸拷痰线驱惠滞醒挪盛光刻过程图片解光刻过程图片解;显影后烘;图形检查;检查;检查;;目前新技术;且荔狞兄碉颅傍哮猴拭椒冀克史元伏皆卉因塔焚妨触跟抠锗娜汤斧忙街胜光刻过程图片解光刻过程图片解;浸没式光刻;浸没式实现方法;氛锄哮炭禾寡恤啊糠的蛆涕紧代舜两蕴遥洞燃便氦陌朵高结脾贩芽若需骚???刻过程图片解光刻过程图片解;此外,目前正在研究的还有X-ray光刻、电子束光刻(EBL)、离子束(IBL)光刻。;安全;小结
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