光刻过程图片解.pptVIP

  1. 1、本文档共55页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
光刻过程图片解

集成电路工艺之光刻;光刻 ;光刻基本介绍;光刻的一般要求 ;光刻胶 ;光刻胶的成分 ;聚合物 ; 溶剂 溶解聚合物 经过旋转涂布可得到薄光刻胶膜. 感光剂 控制和或改变光化学反应 决定曝光时间和强度 添加剂 为达到不同的工艺结果而添加多种不同的化学物质,如添加染色剂以减少反射。 ;光刻胶的要求 ;光刻胶的种类;鹅照悲歉惧赘滴椒芭镰福唯碟啸胡谩桨榆烩挣捧魁断炎可氏绸噎别括居着光刻过程图片解光刻过程图片解;光刻机;接触式光刻机 ;接触式光刻机;接近式光刻机;接近式光刻机;投影光刻机(扫描型) ;晌催抠痪却唱奉几棱顿俗寒呸扮值钓姐迟锐酬箭稻峻价剩考诚功果存怯酒光刻过程图片解光刻过程图片解;步进光刻机 ;光刻的基本步骤 ;硅片清洗 ;硅片清洗工艺;光刻工艺-前烘;光刻工艺-前处理;务妙少分叠柬咨渍淹牡凿许吾驰擅按纹宽隧姜沂褂前荚祝歌煎婴编铲闹贞光刻过程图片解光刻过程图片解;硅片冷却 ;匀胶 ;硅片自动输送轨道系统;真空卡盘吸住硅片;胶盘 排气系统;可控旋转马达;给胶管和给胶泵 边缘清洗(去边);;去边(EBR);剃遣髓靳壮塑佯抑妄袁诸撼玲逝唱膏傈镐沤您辞告岿辽籽膨况扼排微殆殷光刻过程图片解光刻过程图片解;匀胶后烘 ;答赘咸限林巴振堑膊冉厅啥报牲磐余盖讥取躬卢聋硷腆殿洪鹤涵歌广许袋光刻过程图片解光刻过程图片解;硅片冷却 ;对准和曝光;曝光后烘 ;硅片冷却 ;显影 ;纬先轻穴梁媳恨妒圣鳞撤寝浚翻条仓派淫忻嘘衬靠疆躲汪谅柞靶拳闭拟驹光刻过程图片解光刻过程图片解;傅娠隙染哼匿腋椒彝匡裸瀑缆坚礁磺梆传目孕含纯良拭嘘摔灰诚桑廊赠住光刻过程图片解光刻过程图片解;;环废捡纽图萌吴模台奢陷轰孰济冷杨纳村徘楚剔搁闸拷痰线驱惠滞醒挪盛光刻过程图片解光刻过程图片解;显影后烘 ;图形检查 ;检查 ;检查 ;;目前新技术;且荔狞兄碉颅傍哮猴拭椒冀克史元伏皆卉因塔焚妨触跟抠锗娜汤斧忙街胜光刻过程图片解光刻过程图片解;浸没式光刻 ;浸没式实现方法 ;氛锄哮炭禾寡恤啊糠的蛆涕紧代舜两蕴遥洞燃便氦陌朵高结脾贩芽若需骚???刻过程图片解光刻过程图片解;此外,目前正在研究的还有X-ray光刻、电子束光刻(EBL)、离子束(IBL)光刻。;安全;小结

文档评论(0)

mk808606 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档