硅单晶的制备.pptVIP

硅单晶体的制备 桂林电子科技大学职业技术学院 一、多晶硅的制备 多晶硅是硅的多晶体，与硅单晶体的显著区别在于部分晶格原子的无序排列；但多晶硅是制备单晶硅的原始材料。 高纯硅的制备通常首先由硅石（二氧化硅）制得工业硅（粗硅—纯度低、杂质多），再制成高纯多晶硅，经拉制得到半导体材料单晶硅，或称硅单晶。 多晶硅制备方法原理——还原与分解 常见的多晶硅制备方法主要有三种： 四氯化硅氢还原法 三氯氢硅氢还原法 硅烷热分解法 多晶硅制备原理与方法 四氯化硅氢还原法 第一步：四氯化硅制备 第二步：四氯化硅提纯 1、精馏法—分馏 四氯化硅溶液中各化合组分沸点不同，选取适当的温度可以将其分离。 四氯化硅氢还原法 2、吸附法——固体吸附法 利用分子极性进行分离，判断化学键的极性与分子的极性。 判断：CCl4 、H2 、H2O2 四氯化硅为非极性分子，三氯化磷为极性分子， 选择一种吸附剂，能对极性分子有吸附力，对非极性 分子没有吸附力。 四氯化硅氢还原法 活性氧化铝：极性吸附剂—同性相吸，异性相斥 严格控制加热速率，于773K加热制成多孔结构的活性物质 吸附纯化后，四氯化硅纯度可达6至9个“9”，既99.9999%，可用来制备多晶硅。 第三步：四氯化硅还原制得多晶硅 三氯氢硅氢还原法 第一步：三氯氢硅制备