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- 2017-06-11 发布于浙江
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(三)新型光电子材料及相关基础材料、关键设备和特种光电子器件 1、光电子基础材料、生长源和关键设备 研究目标:突破新型生长源关键制备技术,掌握相关的检测技术;突破半导体光电子器件的基础材料制备技术,实现产业化。 研究内容及主要指标: 1)?高纯四氯化硅(4N)的纯化技术和规模化生产技术 2)?高纯(6N)三甲基铟规模化生产技术 3)?可协变(Compliant)衬底关键技术 4)?衬底材料制备与加工技术 重点研究开发外延用蓝宝石、GaN、SiC等衬底材料的高标抛光产业化技术(Epi-ready级);大尺寸(2)蓝宝石衬底材料制备技术和产业化关键技术。蓝宝石基GaN器件芯片切割技术。 5)?用于平板显示的光电子基础材料与关键设备技术 大面积(对角线14″)的定向排列碳纳米管或纳米棒薄膜生长的关键技术; 等离子体平板显示用的新型高效荧光粉的关键技术。 2、人工晶体和全固态激光器技术 研究目标:研究探索新型人工晶体材料与应用技术,突破人工晶体的产业化关键技术,研制大功率全固态激光器,解决产业化关键技术问题。 研究内容及主要指标: 1)?新型深紫外非线性光学晶体材料和全固态激光器; 2)?面向光子/声子应用的人工微结构晶体材料与器件; 3)?研究开发瓦级红、蓝全固态激光器产业化技术,高损伤阈值光学镀膜关
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