电子束蒸发镀膜速率控制.pdfVIP

第35卷第10期 中 国 激 光 V01．35。No．10 2008年lO月 CHINESE LASERS October，2008 JOURNAI。oF 文章编号：0258—7025(2008)10-1591-04 电子束蒸发镀膜速率控制 王善成1’2 方 明1 易 葵1 邵淑英1 范正修1 (1中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800I2中国科学院研究生院，北京100039) 摘要介绍了电子束蒸发镀膜速率控制的基本原理和方法，选取实际生产中大量使用且蒸发特性较难控制的Si02 和Hf02，对两者的电子束蒸发速率控制分别进行了实验研究。采用比例积分微分(PID)闭环反馈控制，通过 Ziegler—Nichols工程经验公式进行原始参量整定，并在实验的基础上对控制器的原始参量进行调整以及对积分作 用和微分作用进行分区处理，速率控制的实验结果表明，采用该参量整定方法并结合工艺流程的改进，能获得良好 的速率控制。针对速率控制中存在的难点问题进行了分析，并提出改进措施：将速率控制和电子枪扫描控制相结 合能进一步改善速率控制。 关键词薄膜；薄膜工艺；速率控制；比列积分微分控制 中图分类号 0484 文献标识码 A doi：10．3788／CJ1591 RatecontrolinElectron—Beam EvaporatedOpticalCoatings YiKuilShao Fan WangShanchen91·2FangMin91 Shuyin91Zhengxiul Institute andFineMechanics，Chinese Shanghai ofOptics AcademyofSciences，Shanghai ／1 201800，China、 2 Graduate Chinese 1 、 Universityof AcademyofSciences，Beijing00039，China ／ Abstractbasic andmethodsofratecontroline-beam areintroduced．Rate The evaporated principle opticalcoatings eontrol are basedonmaterialsof and characteristicsarehard performed Si02 Hf02，whose experiments evaporation tO the differential(PID)closedcontrol。thecontrol were contr01．Usingproportionintegral loop original parameters set formula．Thenthe were andthe and byZiegler-Nicholsexperimental originalparametersadjused integral derivativ