SU-8光阻在矽晶圓基材上製作微流道面板之研究.PDF

南亞學報第二十六期 SU-8 光阻在矽晶圓基材上製作微流道面板之研究 SU-8 光阻在矽晶圓基材上製作微流道面板之研究 莊勝雄 游士諄 林明俊* 周祖亮 南亞技術學院機械系 摘要 本文主要是以UV 微影 製程 ，搭配SU-8 2050厚膜光阻來製作微流道結構 。首先以 Auto-CAD設計繪出微流道圖案 （Pattern ）並製成塑膠光罩 ，然後再以光罩製作長度 2mm ，寬度 分別為40µm 、90µm 、200µm ，深度90µm ，線寬為20µm之微流道結構 ；並 由 3D顯微鏡檢測產品品質 ，進而建立UV 光微影標準作業流程及各項參數控制，以提供 後續研究參考的依據 。 研究中發現以最高轉速 1100rpm 旋塗SU-8 2050厚膜光阻 ；在室溫靜置30分；以20 分鐘時間由20℃上升至90℃預軟烤後 ，以90℃軟烤 60分鐘 ，再慢慢降至室溫 ；曝光時 間 30秒 ；以65℃預曝後烤 2 分鐘 ，然後以100℃曝後烤 10分鐘 ，再慢慢降至室溫 ；室溫 顯影 8分鐘；室溫定影1分鐘；50℃預硬烤 2分鐘，然後以120℃硬烤 5分鐘等步驟；相較 於設計值 ，可得到寬度誤差低於 10％與高度誤差低於4％的最佳製作結果 。 關鍵字 ：微影 、軟烤 、曝光 、曝後烤 、顯影 、硬烤 *Email ：lmgm@nanya.edu.tw Tel ：03-4361070#6302 Fax ：03-4384670 - 23 - 南亞學報第二十六期 SU-8 光阻在矽晶圓基材上製作微流道面板之研究 Study for Micro-Channel Fabrication with SU-8 Photoresist on Silicon Base Sheng-Hsiung Chuang Shih-Chun Yu Ming-Chung Lin* Tsu-Liang Chou Department of Mechanical Engineering Nanya Institute of Technology Jhongli, Taiwan Abstract For silicon based micro-channel fabrication, the UV photolithography process along with the SU-8 2050 photoresist, was used in this study. The AutoCAD software was used firstly to design and plot the pattern of micro channel, and the plastic mask was made with this pattern. Next, the mask was applied to build the micro channel structure, with dimensions of 2 mm in length, 40μm, 90μm, 200μm in width respectively, 90μmin depth and 20μmin line width. At last, the quality of products was detected by a 3D laser microscope. It is hopeful that the s