Nikon光刻机对准机制与标记系统研究.pdfVIP

第 3 期 微细加工技术 №. 3 2002 年 9 月 　　　　　　　　　 　　　　　　　　　 MICROFABRICA TION TECHNOLO GY Sep. ,2002 ( ) 文章编号 :1003 - 8213 2002 03 - 0044 - 04 Nikon 光刻机对准机制和标记系统研究 严利人 (清华大学微电子学研究所 ,北京 100084) 摘要 :套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一 。从应用角度探讨了 Nikon 系列 光刻机的对准方法 ,举例说明了众多对准标记在实际掩模版上的摆放原则 。 关 　键 　词 :套刻精度 ;对准标记 ;掩模版 中图分类号 : TN305 ·7 　　　文献标识码 :A 1 　引言 2 　Nikon 系列光刻机对准机制 步进式重复曝光光刻机出现于上世纪 80 国内设备研究人员比较熟悉 ASML 公 年代早期 ,从那时起直至 90 年代后期出现第 司的光刻机 ,关于该类光刻机的对准机制 ,或 一台准分子激光光刻机商品为止 ,各种各样的 许可参考文献 [ 1 ] 。与 ASML 光刻机相 比, G线、I 线光刻机统治了集成电路制造中的光 Nikon 系列光刻机在对准技术方面有较大的 刻工艺 。在此期间, 日本 Nikon 公司成为世界 差别 ,有自己的特色 。 上占据第一位的步进光刻机供货商 。 在 Nikon 系列光刻机的对准方案中 ,用 国内各大合资集成电路制造厂商 , 除天 到三类对准标记 :对版标记 、硅片粗对标记和 津 Motorola 以ASML 公司光刻机为主外 ,其 硅片精对标记 。此外 ,还有与各类标记相对 他都是使用 Nikon 系列光刻机 ,另外有一些 应的传感器和固定在硅片台上的基准标记集 研究单位也使用 Nikon 公司的 G 线 、I 线光 (称 Fiducial Mark) 。 刻机 。熟悉和掌握与之相配合的掩模版设计 2 1 　用作标准的计量坐标系 技术 ,是更好地使用这类设备的关键 。 硅片台是 Stepper 的核心构件之一 , 在 本文首先介绍 Nikon 光刻机的对准方 硅片 台上 固定 的激光干涉计反射镜面和 案 ,在此基础上结合实例介绍掩模版对准标 Fiducial Mark , 构成了计量坐标系的基础要 记的位置设计原则 。 素 。具体地说 ,两反射镜面垂直 , 指标X 、Y 　　收稿 日期 ; ( ) 　　作者简介 :严利人 1968 - ,男 ,江苏省靖江市人 ,清华大学微电子学研究所副教授 ,1990 年毕业于清华 大学电子工程系半导体专业 ,1992 年于清华大学微电子学研究所获硕士学位 ,现从事集成电路制造工艺 、设 备和技术管理研究 。 第 3 期 　 　　　　　　　严利人 :Nikon 光刻机对准机制和标记系统研究 45 两个方向; Fiducial Mark 可用于指示坐标原 在所记录的坐标值基础上叠加特定数 θ 点;两坐标轴上的刻度由激光干涉计的激光