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PSS制程技术-中国LED网—LED行业门户、LED电子商务
PSS制程技术
ROY .HE
2010.05 .11
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目录
PSS概述
PSS 在LED 中的应用
PSS 在LED 中的实现方式
PSS制程难点及其解决方法
总结
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PSS概述
PSS 是Patterned Sapphire Substrate 的简称, 即图
形化蓝宝石基板,此技术可以有效的减少差排密
度, 还可提升光取出效率.
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PSS 在LED 中的应用
1. 有效的减少差排密度,减少外延生长缺陷,提
升外延片品质.
2. 改变LED 光学路线,提升LED外部量子效应.
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PSS 在LED 中的实现方式
这项技术主要有wet etching和Dry etching
两种实现方式.
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一. Wet etching 实现PSS 原理
由于SiO2 在浓硫酸和浓磷酸
中被高温腐蚀时是各向同性
的,Al2O3 因为其结构的原
因(如图2.17)被腐蚀时是
项异性的,
所以当发现图形边缘由圆变
直时,表明已经开始腐蚀蓝
宝石衬底了,可以调节腐蚀
时间控 图形的大小.
图蓝宝石结构示意图,
●:O2-;○:Al3+
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二. Wet etching flow
利用硫酸(H2SO4 ,重重百分浓度96 % ) 与磷酸
(H3PO4 ,重量百分浓度86 % ) 两种酸性混合液体依
各重混合比例调 所需之蚀刻溶液,并使用厚度
5000 的二氧化矽( SiO2 ) 做为蚀刻阻挡层( hard
mask ) ,以保护所定义图形.
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三. 溶液配比及蚀刻温度对图形的影响
不同硫酸磷酸体积比于不同蚀刻温度下之蚀刻轮廓.
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四.不同图形对LED 光电特性的影响
c d
b
图2.23 不同图形 (平面衬底a,三棱台 图2.24 不同图形 (三棱锥a,球冠
b,三棱锥c,球冠d)的衬底上生长GaN b,三棱台c,平面衬底d)的衬底上生长GaN
外延层的XRD曲线 基LED器件的出光功率随注入
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