第三章_经典合成方法辨析.pptVIP

* 电阻温度计利用感温元件的电阻与温度之间存在一定的关系而制成的。 Rt＝R0（1＋αt＋βt2＋γt3） 电阻比较大、性能稳定、物理及金属复制性能好的材料，电阻与温度间呈线性关系的材料。 常用的有: 铂、锗、碳、铑铁等材料的电阻温度计。 热力学平衡态时的定点 温度/K 误差/K 氢的三相点 13.81 0.01 饱和氢 17.042 0.01 氢的正常沸腾点 20.82 0.01 氖的正常沸腾点 27.102 0.01 氧的三相点 54.361 0.01 氧的正常沸腾点 90.188 0.01 水的三相点 273.16 准确 （2）电阻温度计 液体的蒸气压随温度的变化而变化，通过测量蒸气压可以知道其温度。 克劳修斯－克拉伯龙方程 蒸气压与温度列成对照表，用这种表可以从蒸气压的测量值直接得出温度。 水银柱或精确的指针压强计来测定正常的压强， 测低压强可用油压强计或麦克劳斯压强计、热丝压强计。 （3）蒸气压温度计 低温的控制： 低温冷浴(相变制冷)、 低温恒温器 低 温 合 成（low temperature） 液体浴低温恒温器 低温下的合成反应 (1) 金属与液氨的反应：碱金属、碱土金属与液氨的反应 M ＋ NH3(l) === MNH2 + 1/2H2(g) MH + NH3(l) === MNH2 + H2(g) M2O + NH3(l) === MNH2 + MOH Mg + 2NH3 === Mg(NH2)2 + H2 1、 液氨中的合成 制备NaNH2的装置 (2) 化合物在液氨中的反应： 　　　生成氨化物或亚胺化合物： BCl3 + 6NH3 === B(NH2)3 + 3NH4Cl BI3 ＋ 9NH3 === B2(NH)3 + 6NH4I P4S3 (NH4)2[P4S3(NH2)2] (NH4)2[P4S3(NH)] (NH4) [P4S3(NH2)] P4S3 (3)非金属与液氨的反应 NH3 + 4O3 === NH4NO3 + H2O + 4O2 低温下的合成反应 低温下稀有气体化合物的合成 1、低温下的放电合成： XeF4 XeCl2 2、低温水解合成：氙的氧化物和氟氧化合物 3XeF4 + 6H2O === XeO3 +2Xe + 3/2 O2 + 12HF 3、低温光化学合成：KrF2、XeF2 自由基反应机理 低温下的合成反应 方法： 先用液氮冷却氟化氙，然后加入 水，此时形成凝固状态，逐渐加热使反应缓慢进行，直至加热至室温。 水解完毕后，小心地蒸发掉HF和过量的水，即可得潮解状的白色XeO3固体。 ——为了防止氟化氙水解爆炸，利用液氮来冷却 光化学合成KrF2的机理： （1）F2 → 2F· （2）F· + Kr → KrF· （3）2KrF· → KrF2 + Kr KrF· + F· → KrF2 当光源的波长为3100 ? 时量子产率最大，有利于氟受激分解为原子氟。 低温下的分级冷凝 低温下的分级减压蒸发 低温吸附分离 低温化学分离 低 温 分 离 分离依据：沸点差异 低温下的分级冷凝： B3N3H4Cl2 (151.9) 、B3N3H5Cl(109.5)、 B3N3H6(50.6)、 B2H6(-86.5)、H2(-253) -45.2oC 冷阱 (B3N3H4Cl2) -78.5oC冷阱 (B3N3H5Cl) -111.6oC冷阱 (B3N3H6) -196oC冷阱 (B2H6) H2 沸点差大于80oC,干冰或液氮作为制冷剂 吸附剂的多孔性与分离气体的匹配程度 加入过量的第三种化合物，使之与其中的一种化合物形成不挥发的化合物，把挥发性的组分除去，再向不挥发性产物中加入过量的第四种化合物，把原来的化合物置换出来。 低温下的分级真空蒸发： 低温下的化学分离： 低 温 分 离 低温吸附分离： Why use high pressures? 1) PbSnO3 does not form as