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表面微构造的硅材料———一种新型的光电功能材料!
前沿进展
表面微构造的硅材料———一种新型的光电功能材料!
赵! 明! ! 苏卫锋! ! 赵! 利
(复旦大学物理系! 应用表面物理国家重点实验室! 上海! #$$’ )
摘! 要! ! 在()* 气体氛围内用飞秒激光照射硅表面,可在硅表面产生准规则排列的微米量级尖峰结构,形成“黑
硅”新材料+ 初步研究表明,这种“黑硅”新材料对波长为#,$—#,$$-. 的光波有大于/$0 的吸收,同时它还具有相
当好的场致发射特性+ 由于具有这些奇特的光电性质,这种表面微构造的硅材料在光电探测器、太阳能电池、平板
显示器等器件制造领域有着重要的潜在应用价值+
关键词! ! 飞秒激光,微构造,“黑硅”
!#$%’$(#’($)* +#%,———- ,). ’/0) %1 %0’%2)+)#’$%,# 3-’)$-+
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! ! R//% 年,哈佛大学5PJ= 教授研究组在飞秒激
光与物质相互作用研究的过程中,发现利用飞秒激
光在一定气体环境下照射硅片可在硅表面激光辐照
区产生微米量级的尖峰结构[R]+ 至R/// 年,他们发
展了这种微观构造硅表面的新技术———利用飞秒激
光在一定气体环境下刻蚀硅,制备出具有一定刻蚀
面积的新材料,原本是灰色有光泽的硅表面在刻蚀
过的地方肉眼看去完全变成了黑色(如图R 所示),
因而这种新的硅材料也被称为“黑硅”(GLKE @6L6;
图R! ()* 气体中飞秒激光刻蚀硅表面得到的“黑硅”样品
KA- )+
利用扫描电子显微镜((V5 )观测发现,“黑硅” [ ]
意 ,R/// 年的 (K6:-I6B6K 3.:=6K- 杂志,X6@KAF:=
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