布拉格反射镜制作和其在光电子领域的应用.pdfVIP

布拉格反射镜制作及其在光电子领域的应用 王勇刚““’ 马骁宇‘ 张志刚2 宋宴蓉’ (1．中国科学院半导体研究所 北京L00083) (2．天津大学精密仪器与光电子工程学院超快激光实验室天津300072) (3．北京工业大学敷理学院 北京 100022) 捕要：简要介绍了布拉格反射镜作为有一定反射带宽的反射镜的基本原理及其制作方法．就 光电子领域出现的应用布拉格反射镜的一些新器件和新工艺，如垂直腔面发射激光器、垂直外腔面 发射激光器以反半导体可饱和吸收镜等进行了概迷，从材料和器件角度总结了布拉格反射镜近年来 的发展． 关键词：布拉格反射钝半导体；介质 l-引言 布拉格反射镜技术来源于多层膜光学(反射膜)制各技术，现在在光电子学中发挥着日益重要的 作用．简而言之。布拉格反射镜就是交错生长的若干对两种或两种以上的半导体或介质材料，以此 来获得对某一光学波段的高反射率。布拉格反射镜技术理论上并不复杂，但是实际应用时一般要和 其他器件集成在一起，对材料的参数有所选择可能带来生长上的难度．光电子学中，布拉格反射镜