分析化学jjg-配位滴定法.pptVIP

* 解蔽法分别滴定： 先加配位掩蔽剂L，使N生成NL后， EDTA 准确滴定M，再用X破坏NL，从NL 中将N释放出来，以EDTA再准确滴定N。X为解蔽剂。 测定铜合金中的铅、锌时，可在氨性试液中用KCN掩蔽Cu2+，Zn2+，以铬黑T为指示剂，用EDTA滴定Pb2+。于滴定Pb2+后的溶液中加甲醛(或三氯乙醛), Zn（CN）42-被解蔽而释放出Zn2+，然后用EDTA滴定释放出来的Zn2+。 §5.6 混合离子的分别滴定 * 4 沉淀掩蔽法 加沉淀剂，使干扰离子浓度降低，在不分离沉淀的情况下直接滴定，这种消除干扰的方法称为沉淀掩蔽法。例如，在强碱溶液中用EDTA滴定Ca2+时，强碱与Mg2+形成Mg(OH)2沉淀而不干扰Ca2+的滴定，此时OH-就是Mg2+的沉淀掩蔽剂。 §5.6 混合离子的分别滴定 * 5 氧化还原掩蔽法 利用氧化还原反应改变干扰离子的价态以消除干扰的方法，称氧化还原掩蔽法。 抗坏血酸 Fe3+ → Fe2+ Na2S2O3 Cu2+ → Cu（S2O3）23- 过硫酸铵