第三章 表面技术010507（副本）.pdfVIP

20 Oct. 2001 Vol.30 NO.5 等离子聚合薄膜技术及其应用 张，.万平 (辽宁大学化学科学与工程学院，辽宁沈阳 110036) 【摘要』介绍了当今深受关注的等离子策合薄膜的制备技术。其中，重点探讨了在低能通贡和高能通全条件下 制备等离子策合物的沉积过程、膜的结构形态及主要性能，并对近来人们在中等能全通贡下制备的等离子来合体的研 究情况做了简要描述。与此同时，还扰各种不同等离子策合薄膜的实际应用及发展前景进行了概括。 〔关健词〕等离子;等离子来合体;喊射薄膜 【中圈分类号]TQ630.79 文【献标识码]B 文【章编号]1001一3660(2001)05一0 一04 PlasmaPolymerFilmsSkillandTheirApplicationProspect 2月ANGLet.科N为吸 (InstituteOfChemicalScienceandFa叻neering,LiaoningUniversity,Shenyang110036,China) [Attstrmet]A~ isgivenontheapplication‘towgroups‘plasmapolymersfilms.Plasmapolymerfilmsskillandtheir application。summarizedinthisarticle.First,hardplasmapolymer(C:H)cornpositesbyunbalancedmagnetronsputteringdevel- oped,depositionprocessandbasicpropertiessuchasthestructure,morphology,electricalandopticalproperties。described.Then, thepreparationofplasmapolymerfilms场radi。一frequencysputteringfirmpolymerictargetsisintroduced. [Keywords]PlasmapPlamnepolymers;Sputtering;Thin曰幽 0 引 育 被应用于等离子聚合作用中:如电子回旋加速器共振 (ECR)放电、平面或圆柱型磁控电子管辅助等离子聚 等离子聚合法自2.0世纪匆年代起迅速发展起 合t，一’1。 来。特别是近20年来得到广泛认同。并且涌现出一 等离子聚合体的沉积率是由下列参数(特性)决定 些成功的应用典范。碳质膜是由Ming(1,21及合作者用 的:系统的几何性质，起始单体物的活性及其流速，工 单项整流50Hz电压的平板电极装置通过苯蒸气辉光 作气压，激发信号的能量和频率，以及基体的温度。此 放电获得的。根据红外吸收光谱分析，证明他们已制 外还应考虑放电时高能粒子(诸如高能光子、中子及阳 备出碳氢等离子聚合体，且得到了硬质聚合物 (C一H) 离子)的轰击力。同时，不容忽视超高能粒子轰击，使 和一种类似非晶态碳化氢 (a一C:H)的物质。 正在生长的薄膜结构和性能发生改变。 在20世纪的后20年里，等离子聚合反应被确立 等离子聚合作用的几种动态模型已建成使用。最 为基本的研究领域，而应用于许多方面。并且出版了 流行的要数I.am(sl,P011191以及Yasuda16l模型。这几种 一些评论和专著[(3一61。 模型涉及烧蚀、交联和聚合的竞争反应机理。所以，等 等离子聚合过程一般是通过两种反应器来完成 离子聚合作用也被形容为二环(两圈)阶