改性硅基薄膜材料的系统研究论文.pdfVIP

材料及器件 2006 改性硅基薄膜材料的系统研究 熊绍珍。李娟，张晓丹，赵颖，吴春亚，孟志国 南开大学光电子所。天津，300071 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室，天津，300071 张芳 科技部高技术研究发展中心，北京。100044 件结构乃至工艺控制，有较为明晰的认识。愿就此类材料用 摘要 于TFT研究中的可能性问题予以探讨，以为我们国家的显示 本文在超高频PECVD系统中对一种新颖的改性硅基薄膜材料 工业界向高稳定的硅基TFT应用，作些许贡献。 的沉积进行了详细研究。发现这种硅基薄膜可在与非晶硅完 全相同的沉积系统中，仅需改变反应气源的比例及某些沉积 二、硅基薄膜的结构特征： 条件即可方便得到。我们可以通过协调控制若干条件，如反 应气压、功率或衬底温度，可以获得从非晶硅、纳米硅以及 除了由高温制备的单晶硅和多晶硅之外，所有的薄膜型