吸附法氯化氢脱水实验研究及模拟.pdfVIP

摘 要 近年来，新能源产业快速发展，其中太阳能受到更为广泛地关注。作为太阳 能电池的核心组件-多晶硅，主要生产原料为三氯氢硅，在三氯氢硅生产工艺过 程中需要消耗大量氯化氢。工业上氯化氢多采用氢气和氯气在合成炉中燃烧的方 法获得。合成氯化氢中的水分含量一般较高，这将降低三氯氢硅收率、缩短流化 床合成炉的使用寿命。因此，开发有效降低氯化氢中的水分含量的方法，对三氯 氢硅生产过程的节能降耗意义重大。 本文结合三氯氢硅生产过程实际，在氯化氢气体冷冻脱水法的基础上，研究 和探讨用分子筛吸附法深度脱水的可行性，并对过程进行了模拟计算。选择 NKF-4A 、NKF-5 （50 ）和NKF-5 （300 ）三种型号的分子筛，分别进行氯化氢吸 附脱水的性能测试，包括动态吸附量、磨耗率和再生难易程度。结果表明：（1） 从脱水深度来看，三种分子筛吸附后的氯化氢气体中水分均小于 50ppm；（2 ） 在吸附容量方面，NKF-4A ＞NKF-5 （50 ）＞NKF-5 （300 ）；（3 ）强度方面， 使用一个周期后，NKF-4A 磨耗率损失0.93%，颜色变化明显，且为不可逆，而 NKF-5 （50 ）和NKF-5 （300 ）吸附前后，磨耗率为零，颜色没有明显变化；（4 ） 从再生角度，NKF-5 （50 ）再生效率最高，且再生时间短。综合比较得出，NKF-5 （50 ）分子筛最适合于氯化氢深度脱水。对实验数据结果拟合的结果表明，上述 的吸附过程符合Langmuir 等温线。 用Aspen Adsorption 模拟了氯化氢吸附脱水的穿透曲线。研究了压力、传质 系数、孔隙率等因素对穿透曲线的影响。从工程设计的角度说明了等温假设和其 他简化近似的合理性。Aspen Adsorption 可用于吸附过程的辅助设计。 关键词： 氯化氢，脱水，吸附，分子筛，模拟，Aspen Adsorption I ABSTRACT In recent years, new energy industries are developing quickly, in which solar energy has received broad attention. Polysilicon is the core component of solar energy cell. Trichlorosilane is main raw material of this process, while production of trichlorosilane needs large amount of hydrogen chloride. Hydrogen chloride is generally produced by hydrogen and chlorine burning in hydrogen chloride furnace. Water in hydrogen chloride not only has an effect on the yield of trichlorosilane , also influences serviceable life of synthetic furnace of trichlorosilane and other related installations. Reducing water in hydrogen chloride effectively will have a good effect on energy saving in the production of trichlorosilane. The feasibility of using zeolite for the deep dehydration of hydrogen chloride on the basis of refrigeration was studied ，and the process simulation was made. Three types of zeolit