磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系-发光学报.PDF

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2017-06-24 发布于天津
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磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系-发光学报

24 3 Vol1 24 No . 3 2003 6 CHINESE JOURNAL OF LU MINESCENCE Jun. , 200 3 : 1000- 032(2003) 03-0305-04 磁控溅射CNx 薄膜的附着力粗糙度与衬底偏压的关系 1, 2 1 1 1 1 1* 2 李俊杰 , 王欣 , 卞海蛟 , 郑伟涛, 吕宪义 , 金曾孙 , 孙龙 ( 11 ; , 130023; 21 , 133002) : Si( 001) CN x CN N , ( T ) 350 e , ( V ) 0~ - 150V x 2 s b (AFM) CN AFM x V CN , - 100V b x CN ( ) , Si( 001) Si x ( 001) CN x : CN ; ; ; x : O48415 : A CN 1 引言 x CNx 2 实验 [ 1~ 3] CNx CNx [4~ 6] , 5@ 10- 4Pa, , CN , x , CVD Si ( 001) , , ( 99199%) 80mmSi , CNx , 10min, , , Si , Si SiO , Si SiF , 2 4 , CNx , , [ , 8] , , CNx 500 e , 10min SiF4, Si CN , , , 350 e x ,