负偏压对磁控溅射TaN薄膜微观结构和性能的影响-中国有色金属学报.PDF

第 23 卷第 7 期 中国有色金属学报  2013 年 7 月  Vol.23 No.7  The Chinese Journal of Nonferrous Metals  July2013  文章编号：1004­0609(2013)07­1923­08  负偏压对磁控溅射 TaN 薄膜微观结构和性能的影响 薛雅平，曹 峻，喻利花，许俊华  (江苏科技大学 江苏省先进焊接技术重点实验室，镇江 212003)  摘 要：采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的 TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子 力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层 TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩 擦性能的影响。结果表明：TaN 薄膜主要为面心 δ­TaN 和斜方 Ta N 晶体结构，择优取向随着负偏压的不同而不 4 同；当负偏压为 80V 时，TaN薄膜的硬度和弹性模量均达到最大值，分别为 30.103和 317.048 GPa，并且此时薄 膜的膜−基结合最强；常温下单层 TaN薄膜的摩擦因数与负偏压关系不大，基本保持在 0.64~0.68之间；高温下， 随着温度的升高，摩擦因数逐渐降低。 关键词：TaN薄膜；负偏压；微观结构；摩擦性能 中图分类号：TG174.44；TG148  文献标志码：A  Effectof bias voltage on microstructureand properties of  magnetron sputteringTaNfilms  XUE Ya­ping, CAO Jun, YU Li­hua, XU Jun­hua  (Key Laboratory of Advanced Welding Technologyof Jiangsu Province,  Jiangsu University of Science and Technology, Zhenjiang 212003, China)  Abstract: A series of TaN films were fabricated at various bias voltages by magnetron sputtering technique. Their  microstructure,  surface  morphology,  mechanical  and  friction  properties  were  investigated  by  scanning  electron  microscope (SEM), X­ray diffraction (XRD), atomic force microscope (AFM), nano indentation tester and friction and  wear tester, respectively. The results show that the structure of TaN is composed of cubic δ­TaN and orthorhombic Ta N,  4 while the preferred orien