静电雾化沉积制备薄膜 eli.ppt

* 学号：2013432018 班级：材料物理与化学 姓名：邢光宗 静电雾化沉积 （Electrohydrodynamic spraying deposition） * 静电雾化沉积 具体例子 简介 理论简介 影响因素 历史背景 * 历史背景 静电雾化沉积现象的研究可以追溯到一个半世纪以前的Bose和我世纪早期Zeleny的工作。 对于静电雾化沉积定量的研究始于20世纪中叶，其中以下几位科学家的贡献最为显著。 * 简介 定义 静电喷雾沉积的是通过在液滴表面施加直流高压电场,进而形成气溶胶并通过电场作用沉积在基底上制备薄膜的一种方法 Fig. 1. A photograph of an electro atomizer. Fig. 2.Schematic configuration of the experimental setup of the ESD method. The inset shows the CCD image while spraying the organic solution, and the spray diameter was estimated by the CCD image * 简介 优点 整个静电雾化沉积可以分为三个过程：雾化过程、输运过程、微观沉积过程。 与其他沉积制膜技术相比有以下优点： （1）由于液滴带有大量电荷，所以库仑斥力阻止了液滴的凝聚并且使其更易穿透其周围的气体介质，由于雾滴或粉粒带有相同电荷，在空间的运行过程中相互排斥，不容易发生团聚现象，所以在目标作物上覆盖较为均匀，此外由于在目标周围存在电场的作用，使目标物上面、下面面和隐蔽部位均能沉积雾滴，使雾滴在目标表面吸附率提高 ( 2 )工艺设备简单,不需要高真空设备,在常压下即可进行; ( 3 )能大面积沉积薄膜,并可在立体表面沉积,沉积速率高,易实现工业生产; ( 4 )可选择的前驱物较多,容易控制薄膜的化学计量比;搀杂容易并可改变前驱物溶液中组分的浓度制备多层膜或组分梯度膜等; （5 )通过调节雾化参数可控制薄膜的厚度,克服溶胶一凝胶法难于制备厚膜的不足; ( 6 )沉积温度大多在600oC,相对较低 * 简介 缺点 ( 1 )不容易制备光滑致密的薄膜,在沉积过程中,薄膜中易带入外来杂质. （2）因为液滴带电原理，所以无法制备绝缘体薄膜 * 简介 静电雾化的方式 Fig. 3. Various modes of electrospraying. * 简介 雾化过程的三个区域 由上面不同的雾化方式，我们得出进行薄膜制备沉积的时候最好的方式是cone-jet方式 根据文献我们将静电射流雾化过程分为：射流区、波纹区和雾滴区 Fig 4 射流雾化的三阶段 * 简介 静电雾化沉积的过程 Fig 5 steps of ESD process * 理论简介 液滴荷电机理 液通过一定的物理过程将电荷传给雾滴来完成荷电。滴荷 电的基础是依靠放电器件在高压下发生电晕放电，其周围 产生高浓度的离子群。 粒子荷电的基本原理是： 1、离子碰撞，外加电场使雾滴发生极化，把离子吸附在颗粒表面 2、离子扩散，离子浓度差引起离子的随机热运动使离子吸附在颗粒表面 * 理论简介 液滴破碎原理 Fig 6 液滴破碎的条件 d0:液体固有直径 ρa 液体密度 va 气液相对速度 * 理论简介 液滴破碎原理 定义 韦伯准参数 实验发现： 8We10.7:液珠只发生变形而不破碎 10.7We14: 液珠开始破碎 We≥14: 全部破碎为细小的雾珠，We越大 雾珠直径越小。 静电雾化导致液滴破碎的直接原因是： 导体的“集肤效应”，高压电场使液滴表面充有大量同性电荷，增加了液体的表面活性而降低了表明张力使得We显著增大。 * 影响因素 影响材料制备的因素如下所示： （1）聚合物本身的性质：粘度、表面张力、导电性 （2）工艺参数：电压、流速、工作距离 （3）环境因素：温度、湿度、气压等 （4）设备的多样性 * 影响因素 工艺参数 Fig. 7.Relationship between the relative dielectric constant of the organic solvent and the spray diameter measured at the difference positions from the tip of the glass capillary. The dashed line indicates the regression line of the measured spray diameter. * 具体例子 ESD