基于电子束剪切干涉的PIE成像技术研究-物理学报.PDF

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 66, No. 13 (2017) 134202 基于电子束剪切干涉的PIE成像技术研究 李元杰 何小亮 孔艳 王绶玙 刘诚 朱健强 1)(江南大学理学院光电信息科学与工程系, 无锡 214122) 2)(中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800) ( 2016 年12 月16 日收到; 2017 年5 月2 日收到修改稿) 提出了基于Möllenstedt 电子双棱镜的电压扫描剪切干涉全场ptychographic iterative engine (PIE) 显微 成像技术. 从低到高逐步改变电子双棱镜的电压, 并同时记录所形成的剪切干涉条纹, 待测样品透射电子束 的强度和相位分布就可以用PIE 算法得以快速重建, 而且双棱镜的方向、位置和实际电场强度分布等诸多实 验中不可避免地偏差都可以在迭代过程中自动得以更正. 所提技术能够克服现阶段用电子束进行PIE 成像的 诸多技术困扰, 从而有望推动PIE 技术在电子显微成像领域的发展和应用. 关键词: Möllenstedt 双棱镜, 相干衍射成像, 相位恢复, 电子束干涉 PACS: 42.25.Fx, 42.25.Kb, 42.30.Rx DOI: 10.7498/aps.66.134202 解决短波长波段的相位成像问题, 提出了基于无透 1 引 言 镜系统的相干衍射成像(CDI)技术59 : 因其不使 用任何复杂的光学元件, CDI 技术的分辨率理论上 在高分辨显微成像领域, 为了达到理想的空 可以达到系统的衍射极限, 而且由于装置简单, 同 间分辨率, 样品需足够薄以尽可能地避免离焦像 时对环境的要求较低, CDI 技术正逐渐成为材料学 所造成的干扰, 但样品厚度变小将大大降低其对 和物理学等领域中的重要研究工具1011 . CDI 的 光的吸收作用, 从而导致强度成像对比度的急剧 基本概念于1970 年提出, 其主要思想是将光束在 下降. 透射光的相位由于和样品的吸收没有直接 垂直于光轴的两个平面来回传播, 并同时在两个平 关系, 相位像的对比度往往可比强度像的对比度 面上对光束施加强度或空间限制, 从而使光束的分 高出一个数量级以上. 例如, X 射线成像的吸收横 布随着迭代次数的增加而逐渐逼近真实值. CDI 截面对应于原子的吸收系数, 其相移横截面可以 定义为 ( ), 其中 和 分别为 的传统算法主要有1972 年Gerchberg 和 Saxton e e 经典电子半径、X 射线波长、原子序数和反常原子 提出的G-S 算法12 以及1978 年Fienup 1314 提出 散射因子的实数部分. 一般情况下 总是比 大得 的ER (error reduction) 算法和HIO (hyrid input- 多, 而且对于轻元素 可比