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我国超净高纯试剂的应用与发展_徐英伟
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320106
MICROPROCESSORS
No3Jun2010
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110032 m
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DOI103969/jissn10022279201003001TN04
A w
10022279201003000105i
TheApplicationandDevelopmentofChineseUltracleanandHigh
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PurityChemicals m
XUYingwei o
The47thResearchInstituteofChinaElectronicsTechnologyGroupCorporationShenyang110032China
AbstractChemicalsaretheonematerialsofkeychemicalsOnegenerationmicroelectronicaltechnologyneedsonegen
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erationUltra
cleanandHighpuritychemicalsInthispaperthedevelopingtrendofthemanufacturingtechnologyforintegratedcircuit
discretedeviceandliquidcrystaldisplaydeviceispresentedandalsointroducetheapplicationandthedevelopingtr
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cleanandHighpuritychemicalsathomeandabroadandtheproblemsneedstobesolvedAtlastthedevelopingdirec-
tionofprocesschemicalsastotheneedsforthedevelopmentoftheChinesemicroelectronicalchemicaltechnology
KeywordsMicroelectronicsProcessChemicalsApplicationDevelopment
1
ICTFTLCD
LEDOLEDAMOLED
2
1971
·2·
2010
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TFTLCDLED
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Raleigh
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g436nmi
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365nm248nm193nmEUVExtremeUltraViolet
135nm e
Moore
1807
2007
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InternationalTechnologyRoadmapforSemiconduct
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