微弧氧化小阴极放电及膜层均匀性 - 中国表面工程.PDF

第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 ２８ ３ Ｖｏｌ．２８ Ｎｏ．３ 　 　 　 　 　 年 月 ２０１５ ６ ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ｊｕｎｅ ２０１５ ： ／ ｄｏｉ１０．１１９３３ ．ｉｓｓｎ２０１５．０３．０１１ ｊ 微弧氧化小阴极放电及膜层均匀性 田钦文，郭小娟，李慕勤，马天钰 （佳木斯大学 黑龙江省高校生物医学材料重点实验室，黑龙江 佳木斯 １５４００７） 摘 要：针对微弧氧化工艺中小功率电源大面积处理或局部腔体处理问题，研究小阴极微弧氧化工艺方法。采用 　 ５５０Ｖ恒压模式，阳极为Φ７０ｍｍ×０．５ｍｍ的纯铝样件，阴极为Φ１５ｍｍ不锈钢棒，浸没到硅酸钠基的电解液内的长度 可变，探讨放电伏安特性和膜层厚度、表面形貌以及电化学行为的均匀性。结果表明：小阴极可以实现微弧氧化，但小 阴极增加了阴极 阳极间放电的等效阻抗，会造成微弧放电较弱、成膜速率较低，微弧氧化样品的径向膜层厚度和耐蚀 性呈现不均匀性，靠近样品边缘膜层较厚，中心区域膜层较薄；增加阴极尺寸，膜厚均匀性从 ７４％（阴极深入２０ｍｍ）提 高到 ７８％（阴极深入 ４０ｍｍ），同时膜层的耐腐蚀区域加大。结果对于小功率电源大面积微弧氧化和腔体内部微弧氧化 具有重要的指导意义。 关键词：微弧氧化；小阴极；均匀性；耐腐蚀性；涂层厚度 中图分类号： 文献标志码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４５ Ａ １００７９２８９２０１５０３００７００６ 　　　 　　　　 犃狉犮犻狀 犅犲犺犪狏犻狅狉犳狅狉犕犻犮狉狅犪狉犮犗狓犻犱犪狋犻狅狀狑犻狋犺犛犿犪犾犾犆犪狋犺狅犱犲犆狅狀犳犻狌狉犪狋犻狅狀 犵 犵 犪狀犱犝狀犻犳狅狉犿犻狋狅犳犆狅犪狋犻狀狊 狔 犵 ， ， ， ＴＩＡＮＱｉｎｗｅｎ ＧＵＯＸｉａｏ ｕａｎ ＬＩＭｕ ｉｎ ＭＡＴｉａｎ ｕ ｊ ｑ ｙ （ ， ， ， ） Ｋｅ Ｌａｂ．ｏｆＢｉｏｍｅｄｉｃａｌＭａｔｅｒｉａｌｓｏｆＨｅｉｌｏｎ ｉａｎ ＰｒｏｖｉｎｃｅＣｏｌｌｅｅｓＪｉａｍｕｓｉＵｎｉｖｅｒｓｉｔ Ｊｉａｍｕｓｉ１５４００７ Ｈａｒｂｉｎ ｙ ｇｊ ｇ ｇ ｙ 犃犫狊狋狉犪犮狋： （ ） Ｍｉｃｒｏａｒｃｏｘｉｄａｔｉｏｎ ＭＡＯ ｗｉｔｈａｓｍａｌｌｓｉｚｅｃａｔｈｏｄｅｗａｓｉｎｖｅｓｔｉａｔｅｄｆｏｒｓｕｒｆａｃｅｔｒｅａｔｍｅｎｔｏｆｌａｒｅａｒｅａ ｇ ｇ ｗｏｒｋｉｅｃｅｕｓｉｎ ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｕｎｉｔｗｉｔｈｌｏｗｅｒｒａｔｉｎ ｏｗｅｒｏｒｌｏｃａｌｔｒｅａｔｍｅｎｔｏｆｃａｖｉｔ ｓｈａｅｄｏｂｅｃｔｓ．ＴｈｅＭＡＯ ｒｏｃｅｓｓｅｓ ｐ ｇ