化学镀镀层孔隙率对电化学行为的影响及其量化评价.pdfVIP

助 锨 财 斟 2013年第6期(44)卷 化学镀镀层孑L隙率对 电化学行为的影响及其量化评价 徐 扬 ，邹 勇 ，栾 涛 (1．山东大学 能源与动力工程学院，山东 济南 250061； 2．山东大学 材料液 固结构演变与加工教育部重点实验室 ，山东 济南 250061) 摘 要 ： 通过调整镀层厚度得到 了具有不同孔 隙率 电路后 ，能够更详尽地描述 电极反应的情况。本文分 的Ni—P化学镀层 。使用 图形分析软件辅助贴滤纸法 别使用极化曲线法和交流阻抗法分析镀层孔隙率与镀 测得 了镀层孔隙率，并研究了孔 隙率对镀层 电化学行 层电化学行为之间的关系，并以此作为镀层孑L隙率量 为的影响，探讨 了利 用 电化学测试对镀层孔 隙率进行 化评价的依据 。 量化评价的方法。结果表 明，图形分析软件 可 以提 高 2 实 验 贴滤纸法的准确性和可重复性 ，而电化学方法在测量 镀层微 小孔 隙方面具有 明显优 势。极化 曲线测试表 2．1 基体材料及施镀方法 明，孔 隙率较小的镀层具有较高的腐蚀 电位和较低 的 基体采用的是 10mm×10mm×0．8mm 的低碳钢。 腐蚀 电流密度 ，可根 据所测 曲线精确计算 出镀层孔 隙 在施镀前基体要先经过打磨 ，碱洗 ，酸洗 ，敏化等前处理 率。交流阻抗测试可进一步揭示孔隙率对镀层腐蚀机 过程 ，各步间冲洗试样。Ni-P化学镀液以硫酸镍为主 理的影响 ，存在孔 隙的镀层其交流阻抗谱会表现双时 盐 ，次磷酸钠为还原剂 ，柠檬酸钠 、乙酸钠为络合剂[1。 间常数的特征 ，通过拟合所得 电化学参数可以用来评 使用浓氨水将镀液 pH值调至 4．7，镀浴温度设置为 价镀层孔 隙率大小。 82)C。由于镀层孔隙率随镀层厚度的增加而减少口 ，采 关键词： 化学镀；Ni—P；孔隙率 ；极化 曲线 ；交流阻抗 用调整施镀时问的方法来调整镀层厚度，以得到不同孔 中图分类号 ： TQ153；TG146 文献标识码 ：A 隙率的镀层。各试样的施镀时间示于表 1。 文章编号 ：1O01—9731(2013)06—0902—04 表 1 镀层施镀 时间及厚度 1 引 言 Table1Depositiontimeandthicknessofeachcoating 试样 1 2 3 4 5 6 由于具有 良好 的耐蚀性 、耐磨性 、硬度和光洁 施镀 时间(min) 2O 40 6O 12O 18O 240 度 [ ，化学镀 Ni—P层被广泛应用于各生产领域。Ni— 镀层厚度 (“m) 3．3 6．27 9．46 24．04 3O．1736．82 P镀层通常相对基体表现为阴极 ，所以镀层 的孔隙率 2．2 镀层形貌和结构 必须被控制在很低的水平_3]。传统的孔隙率测量方法 基恩士 VHX一500FE光学显微镜被用来观察镀层 包括贴滤纸法、涂膏法 、浸泡法_4 等。它们都属于化 的截面形貌 ，测量镀层厚度。镀层