多轴激光并行直写系统简介 - 苏大维格.PDF

      www.SVG 多轴激光并行直写系统 Multi‐Axis Laser Parallel Direct Writing System  SVG‐4A100  简介             2009    简介 Introduction      多轴激光并行直写光刻设备(Multi‐Axis Laser Parallel Direct Lithography System)SVG‐4A100 主要 设计用于超精密度图形制造。支持矢量扫描、点阵运行模式，具有灰度光刻、形状光阑拖曳（闪 耀）、光变图像（光栅）光刻等特色。由四轴纳米级运动控制系统（X‐Y‐Z‐θ）、空间光调制器 （SLM‐DMD）光斑输入参量控制、CCD 监控自动聚焦和图形处理等功能构成的运行体系，具备了 当今国际上功能最强的并行光刻性能，能实现包括曲面上的各种特性微结构图形的精密制造。                         超高精度定位（Nano‐Positioning）  压电陶瓷驱动，纳米级的几何分辨率与定位精度。    CCD 动态聚焦（Dynamic Focusing）  自动聚焦光路设计结合智能化的图像处理，实现了聚焦光斑在 Z 轴方向 的精确定位。消除光刻胶涂布厚度和基板不均匀性对图形光刻精度的影响， 为三维非球面加工和检测提供有力支持。  独有超长范围动态聚焦能力，0~30mm 全程范围内，动态跟随误差 0.3um，跟随速度2mm/s 。  独有动态焦深控制能力，可动态调节光斑的离焦量，不局限于将焦点置 于加工表面上。    高精度重定位功能（Repeat Positioning）  利用 CCD 读取标靶，可对加工板件实现高精度的二维重复定位，支持 二次曝光和支持 LIGA 叠层光刻工艺。  独有倾斜角度物理补偿，消除传统重复定位中用软件补偿产生的锯齿 形。  借助重定位功能和 CAM 软件拼板加工功能，可成倍扩展工作幅面。    维格光电 SVG Optronics, Co.,  Ltd.  478 Zhongnan Street, SIP, Suzhou 215026, China  2   灰度光刻( Grayscale Lithography)  多台阶功能：通过 SLM‐DMD （Digital Mirror Device）输入具有灰 阶结构的图形，调制光斑，一次曝 光，可产生多重台阶，光斑尺寸从 20um 可调至 256um，灰度光刻的 物理分辨率可达 2um。从 2 台阶到