第二十四讲si表面和金属-氧化物-半导体结构(续) 内容: 阅读作业.pdf

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第二十四讲si表面和金属-氧化物-半导体结构(续) 内容: 阅读作业

2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo Si 第二十四讲 表面和金属-氧化物-半导体结构 (续 10月30 ,2002 内容: 1. MOS结构的动态特性 阅读作业 del Alamo Ch. 8 §8.4 8.4.1 8.4.2 , ( - 2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo 主要问题  对MOS结构的电容-电压特性如何看待?  MOS C V 一个 结构的 - 特性是如何取决于反型层在小信号的频率?  MOS C V 如果在一个 结构上的偏压突然的改变,那么 - 特性会发生什么? 2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo 1. MOS结构的动态特性  MOS结构看起来并且表现的像一个电容  C-V特性总结了MOS 的复杂行为  C-V特性:对广泛应用的强有力的诊断的工具 要研究的三个主要问题:  偏压的影响  小信号频率的影响 2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo  在快速变化条件下的动态行为 □ 首先量化讨论: 2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo □ 电容的一般定义: 2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo 经过一些代数运算后: C 而 S 定义为: C 0 注意: S 简单的物理解释: 2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo □ 准静态C-V特性 如果交流电压信号的频率足够低:准静态条件 采用泊松-玻尔兹曼方程: 那么:

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