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第二十四讲si表面和金属-氧化物-半导体结构(续) 内容: 阅读作业
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
Si
第二十四讲 表面和金属-氧化物-半导体结构 (续
10月30 ,2002
内容:
1. MOS结构的动态特性
阅读作业
del Alamo Ch. 8 §8.4 8.4.1 8.4.2
, ( -
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
主要问题
对MOS结构的电容-电压特性如何看待?
MOS C V
一个 结构的 - 特性是如何取决于反型层在小信号的频率?
MOS C V
如果在一个 结构上的偏压突然的改变,那么 - 特性会发生什么?
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
1. MOS结构的动态特性
MOS结构看起来并且表现的像一个电容
C-V特性总结了MOS 的复杂行为
C-V特性:对广泛应用的强有力的诊断的工具
要研究的三个主要问题:
偏压的影响
小信号频率的影响
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
在快速变化条件下的动态行为
□ 首先量化讨论:
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
□ 电容的一般定义:
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
经过一些代数运算后:
C
而 S 定义为:
C 0
注意: S
简单的物理解释:
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
□ 准静态C-V特性
如果交流电压信号的频率足够低:准静态条件 采用泊松-玻尔兹曼方程:
那么:
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