第三章MOS集成电路器件基础.PDFVIP

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  • 2017-06-29 发布于安徽
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第三章 MOS集成电路器件基础 3.1 MOSFET 的结构与符号 NMOS管的简化结构 P型硅衬底(P-Substrate,Bulk or Body ) N + 源区和漏区(重掺杂 区) 栅级(重掺杂多晶硅区)/ 栅极薄氧化层 导电沟道(Channel ):栅极薄氧化层下的衬低表面 导电沟道(Channel ) 3.1 MOSFET 的结构与符号 衬底连接/互补CMOS 为使MOS管的电流只在导电沟道中沿表面流动,源区/ 漏区以及沟道和衬底之间必须形成反向偏置的PN结隔 反向偏置 正电源 离。 地 PMOS管 NMOS管 在互补型CMOS中, 在同一衬底上制作NMOS和PMOS, 因 此必须为PMOS做一个称之为“阱(Well)”的“局部衬底” 。

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