PVD概要1.ppt

* * * * * * * * * * * * PVD (Physical Vapor Deposition) 气 象 沉 积 技 术 报告人：谭先生 2007.12.15 指导人：曾经理 一．气象沉积技术概述 近年来表面工程学发展迅速，新的表面涂层技术层出不穷，气象沉积就是发展最快的新涂层技术之一. （一）.定义: 所谓气象沉积是利用在气象中以物理或化学的反映过程，在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层的方法. 　　 （二）.分类: 　A.化学气象沉积（ＣＶＤ） B.物理气象沉积（PVD） 　 C．等离子体增强化学气象沉（PECVD）　 气象沉积的特点： 可以用来制备具有各种特殊力学性能和物理化学性能（如：高硬度，高耐热，高热导，高耐腐蚀，抗氧化，绝缘等）涂层．不仅可以层积金属涂层，合金涂层，还可以层积多种多样的化合物．非金属半导体．陶瓷和有机物的单层和多层结构的涂层． 气象沉积技术的应用 气象沉积技术生产制备的高硬度，高耐热，高热导，高耐腐蚀，抗氧化，绝缘等涂层，特殊性能的电学，光学功能的涂层，装饰装修涂层，已广泛用于机械、航天、建筑、五金装饰、電子產品、汽配件等行业 二．物理气象沉积（ＰＶＤ） 原理：物理气象沉积是一种物理气象反映 生长法．沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在80~200℃等离子体条件中进行的．涂层的物质源是固态物质，利用气体放电或加熱的方式使靶材蒸发或电离，经过“蒸发或溅射”后，在电场的作用下，在工件表面生成与基材性能不同的新的固态物质涂层． 分类： １．真空蒸发镀 ２．磁控溅射镀 ３．多弧离子镀 通常获得能量的方法有两种：ａ热能　ｂ离子撞击．在以上的三种方法中，第一种为属于热能蒸发，后两种属等离子体气象沉积(离子撞击)范围，目前应用上，泛称为离子镀。 物理气象沉积技术是在辉光放电，弧光放电等低温等离子体条件下进行的，其物理基础是真空物理基础和低温等离子体物理基础 与PVD相关的真空基础与概论 「真空」一词来自拉丁文，意即「虚无」的意思。真正的真空是不存在的，那种认为「真空是什么物质也不存在」的看法，客观上是完全错误的。科学家称「低于一标准大气压的气体状态为真空」，定义真空的质和量，即气体稀薄的程度为「真空度」。一般习惯用压强来衡量真空度的高低（压强愈高真空度愈底，压强愈底真空度愈高） 一、真空概念 二、真空区域的划分 各应用领域的不同，所应用真空度的范围也有 所不同，针对我们应用所需划分为： 粗真空 一大氣壓~10+２Pa 中真空 10+２Pa~10-1Pa 高真空 10-1Pa~10-５Pa 超高真空 10-5Pa~10-10Pa 極高真空 ＜10-10Pa 　 目前離子鍍常用的工作範圍 三、真空度的单位换算 压力单位换算 Pa (N.m2 Torr (mmHg) Bar Atm 水柱 (15℃)m 1 7.500×10-3 10-5 9.869×10-6 1.020×10-4 133.332 1 1.333×10-3 1.315×10-3 1.360×10-2 105 750.62 1 0.986 10.206 9.806×104 735.559 0.980 0.967 10.009 6.894×103 51.714 6.894×10-2 6.804×10-2 0.703 1.013×105 760 1.013 1 10.341 9.797×103 73.489 9.797×10-2 9.669×10-2 1 1Torr=133 Pa 1Pa＝7.50062×10-3Torr＝10-5bar＝10-2mbar 換算方法:Pa×133=Torr 102=100 101=10 100=1 10-1= 0.1 10-2=0.01 10-3=0.001 10-4=0.0001 10-5=0.00001 10-6=0.000001 1大气压是760Torr 換算方法:Torr÷133=Pa 1bar＝1000mbar＝750Torr 帕(Pa)与(Torr)托尔換算 与PVD相关的低温等离子体概述 定义:等離子體是一种电离气体，是离子、电子和高能原子的集合体，整体显中性，它是一种由带电粒子组成的电离状态. 等离子体的现象，所发生的辉光放电原理，产生离子溅射基理 等离子体 Ar+ Ar+ 靶材 晶圓 氬離子 工件 靶材 PVD技术中获得等离子体的方法 为了获得等离子体，必须