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ATHENA 工艺仿真系统 ATHENA 工艺仿真系统使得工艺和集成工程师 能够开发和优化半导体制造工艺流程。 ATHENA 提供一个易于使用、模块化的、可扩 展的平台。可用于半导体材料的模拟离子注入、 扩散、蚀刻、淀积、光刻、氧化及硅化。 ATHENA 通过仿真取代了耗费成本的硅片实 验，从而缩短了开发周期并且提高了成品率。 • 可迅速和精确地模拟应用在CMOS、双极、SiGe/SiGeC 、SiC、 SOI 、III-V、光电子和功率器件技术的所有关键加工步骤 • 精确地预测器件结构中的几何参数、掺杂分布和应力 • 简单易用的软件集成绘图性能，自动网格生成，工艺步骤的图形