SmCo_5硬磁薄膜的制备研究.pdfVIP

2012年 1月 四川师范大学学报 (自然科学版) Jan．，2012 第 35卷 第 1期 Joum~ofSichuanNorm~Unive~ity(NaturalScience) Vo1．35．No．1 SmCo5硬磁薄膜的制备研究 雷 勇， 代 波 ， 邵晓萍 (西南科技大学 材料科学与工程学院，四川绵阳621000) 摘要：以cr层为底层和保护层，采用直流共溅射的方法在 si基片上制备了Cr(80nm)／SmCo(300 nm)／Cr(8nm)薄膜，并对样品进行550℃保温30min的退火，然后分别利用EDX射线能谱仪、x射线衍射 仪、原子力显微镜 、振动样品磁强计分析研究了退火前后SmCo薄膜样品的成分、结构、表面形貌、磁学性能 及其变化规律．结果表明：在 10I4Pa真空环境下，SmCo薄膜在550℃退火，保温30rain后具有较好的硬磁 性能，矫顽力 为 1738Oe． 关键词：SmCo薄膜；共溅射；退火温度。；矫顽力