有机气相沉积中薄膜厚度分布的模拟研究.pdfVIP

第34卷 第5期 电 子 器 件 Vo1．34 No．5 2011年 10月 ChineseJournalofElee~onDevices 0ct．2011 SimulationofThin-Film ThicknessDistributionforOrganicVaporPhaseDepo sition L／Guodong，CHENWenbin ，ZHAOQiyi，RUIDawei (SchoolofOptoelectronicInformation，UniversityofElectronicScienceandTechnologyofChina，Chengdu610054，China) Abstract：Organicvaporphasedepo sitionisatypeoforganicthinfilm growthbasedontransportationofcarriergas．In ordertooptimizethedepositionparametersnadimprovehteuniformityoforganicthinfilm，asimplifiedOVPDmodelwas setupandhteinfluenceofdifferenttransportconditionsOilthehydrodynamicboundarylayerWas simulated．Adeposition modeloforganicmoleculesWas setupnadhtedepositionprocessintheboundarylaywassimulatedbyemployingmonte cralomehtod．Theresultsshow htatathinnerandmoleuniform boundary layerCna beachievedby increasingthe ReynoldsNumberfrom 0．05to15undertheoperatingpressureat133Pa．Th edepo sitionratevariesinverselywiht the boundarylayerthicknessandaunifomr boundarylayerwillcontributetoawellthin—film thicknessdistribution． Keywords：organicthinfilm；thicknessdistribution；montecarlomethod；OVPD；hydrodynamicboundarylayer； depositionparameters EEACC：0520F doi：10．3969／j．issn．1005-9490．2011．05．005 有机气相沉积中薄膜厚度分布的模拟研究水 李国栋，陈文彬 ，赵启义，芮大为 (电子科技大学光电信息学院，成都610054) 摘 要：有机气相沉积是一种基于载气体传输的有机薄膜生长方式。为了优化沉积参数，提高有机薄膜的均匀性，建立了简 化的OVPD模型，模拟了不同传输条件对流体动力学边界层的影响。建立了有机分子沉积模型并利用蒙特卡洛法对边界层内 的沉积过程进行仿真。结果表明在 133Pa的操作压强下使气流雷诺数从0．05增加到 15，可获得更薄、更均匀的边界层；沉积 速度反比于边界层厚度．并且厚度均匀的边界层有助于获得较好的膜厚分布。 关键词 ：有机薄膜；膜厚分布；蒙特卡洛法；有机气相沉积；流体动力学边界层；沉积参数 中图分类号：TB43 文献标识码：A 文章编号：1005—9490(2011)05—0503—04 有机小分子薄膜广泛应用于有机 电致发光器件 充分了解。因此建立计算机数值模拟模型对进一步 (OLED)、光电池以及薄膜晶体管 (TFTr)等有机光电 了解薄膜的沉积机制是非常有益的。基于 OVPD的 器件…。而这些有机薄膜一般是利用真空热蒸发 成膜方式。本文建立了相应的模型来描述有机气相沉 (VTE)的方式来得到高纯度，性能优 良的薄膜。但是