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不同沉积参量下zro2 薄膜的微结构和激光损伤阈值3
第 25 卷 第 7 期 光 学 学 报 Vol . 25 ,No . 7
2005 年 7 月 A C TA O P TICA SIN ICA J uly , 2005
文章编号 :(2005) 079945
不同沉积参量下 Zr O2 薄膜的微结构和激光损伤阈值
1 ,2 2 2 2 2 2 1 1
马 平 陈松林 胡建平 胡江川 段立华 王 震 邵建达 范正修
1 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海 20 1800
2 成都精密光学工程研究中心 , 成都 6 1004 1
摘要 : ZrO2 是用于高抗激光损伤薄膜的重要材料 ,其结构及性能与沉积条件有很大关系 。采用 X 射线衍射
( XRD) 技术分析了不同充氧条件和沉积温度对 ZrO2 薄膜组成结构的影响 ,并对不同工艺下制备的薄膜的表面粗
糙度和激光损伤阈值进行了测量 。结果发现随着氧压的升高 ,ZrO2 薄膜将由单斜相多晶态逐渐转变为非晶态结
构 ,而随着基片温度的增加 ,薄膜将由非晶态逐渐转变为单斜相多晶态 。同时发现随着氧压升高晶粒尺寸减小 ,而
随着沉积温度增加 ,晶粒尺寸增大 。氧压增加时工艺对表面粗糙度有一定程度的改善 ,而沉积温度升高 ,工艺对表
面粗糙度的改善不明显 。晶粒尺寸大小变化与表面粗糙度变化存在对应关系 。激光损伤测量表明 ,氧压条件和沉
积温度对 ZrO2 薄膜的抗激光损伤能力有着较大影响 。
关键词 : 薄膜光学 ; ZrO2 薄膜 ; X 射线衍射 ; 氧压 ; 基体温度 ; 激光损伤
中图分类号 : O484 . 4 文献标识码 : A
S t u di e s o n t h e Mi c r oS t r u ct u r e a n d L a s e r D a m a ge Th r e s h ol d of Zr O2
Th i n F i l m s D ep os i t e d a t D if f e r e n t P a r a m et e r s
Ma Pin g1 , 2 Ch e n Son glin2 Hu J ianp in g2 Hu J ian gchuan2
2 2 1 1
Duan L ihua Wan g Zh en Shao J ianda Fan Zh e n gxiu
1 Sh a n gh a i I n st i t u t e of Op t ics a n d Fi n e Mech a n ics , The Ch i n ese Aca dey of Scien ces , Sh a n gh a i 20 1800
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