类镍钽软X射线激光用高反射镜的研究.pdfVIP

摘要 多层膜技术极大地提高了光学元件对极紫外光和软x射线的反射率，有力 地促进了该波段光学系统的发展，已在天文学、显微成像、光刻、同步辐射应 用以及x射线激光等领域得到了广泛的应用。工作波长为4．48nm的高反射镜是 类镍钽软x射线激光实验及其应用的核心元件，因此，进行4．48nm多层膜高反 射镜的设计、制备与检测研究具有重要意义。 类镍钽软x射线激光用反射镜是周期多层膜，其膜层厚度小、周期数多， 制备难度大，实际反射率远小于设计值。目前；只有美国、德国、日本等研制 了实用的元件，但我国对此类高反射镜还未进行深入研究。 本文探讨了类镍钽软x射线激光用多层膜反射率的计算方法。针对材料的 光学特性、物理化学性质和成膜特点，选择了Cr／C、Co／C和Cr／Sc多层膜材料 对。计算了不同结构参数下，多层膜的峰值(工作波长4．48rim，入射角50)反 射率，比较了几种材料对的反射性能。利用Stearns散射理论，模拟了多层膜界 面缺陷对反射性能的影响。 采用超高真空磁控溅射镀膜设备制备了不同结构参数的Cr／C、Co／C和 Cr／Sc多层膜样品。用x射线小角反射方法测量了多层膜周期，对镀膜材料的溅 射速率进行了精确标定。通过反复实验研究，优化了充气方式、基片偏压、溅 射功率等工艺条件，分析了制备工艺对成膜质量的影响，找到了比较好的镀膜 工艺参数。实验上比较了不同结构多层膜的性能，得到了便于制作的多层膜结 构参数。 使用高分辨率X射线衍射仪测量了多层膜的小角反射曲线和散射曲线，结 果表明样品的膜层结构好、厚度误差小。对测量曲线进行了数值拟合，得到了 拟合结果，分析了影响Cr／C、Co／C和Cr／Sc多层膜反射率下降的主要原因。在 德国BESSY II同步辐射装置上测量了多层膜的反射率，其中，Cr／IC和Cr／Sc多 层膜的峰值反射率分别达到7．50％和6．27％，表明研制的类镍钽软x射线激光用 高反射镜已基本满足了实际应用要求。 关键词：类镍钽软x射线激光，周期多层膜，峰值反射率，磁控溅射 Abstmet Abstract theachievememof normalincidence mirrors，which Multilayer permit high insoft andEUV the forthe reflectivityx-ray region,arcenablingtechnology significant of mirrorsarenow improvementsopticalimagingsystems．These finding wide ininstrumentationfor of application astronomy,microholographybiological laserandSOon，The samples，EUV radiation,X—ray high lithography,synchrotron reflectivemirrorsfor Ta at theCOre Ni—likesoft 4．48nm,are X-rayk噶ef．working elementsinNi-likeTalaser andits the