遮阴和藜竞争对黄顶菊光合荧光和生长特性的影响_杨晴.pdfVIP

网络出版时间：2014-07-09 16:01 网络出版地址：/kcms/doi/10.13287/j.1001-9332005.html 遮阴和藜竞争对黄顶菊光合荧光和生长特性的影响* 杨 晴 1 李婧实 1 郭艾英 1 齐艳玲 1 李彦生 1 张风娟 2** (1 河北科技师范学院生命科技学院, 河北昌黎 066600; 2 河北大学生命科学院, 河北保定 071400) 摘 要 为了防控黄顶菊进一步在国内蔓延,明确黄顶菊的生长机制迫在眉睫.本研究设不同遮阴程度(0、50%和80%)和种植方 式(黄顶菊单种、藜单种、两者混种)共9个处理,研究遮阴和种植方式对两种植物出苗率、光合荧光和生长特性的影响.结果表明: 适度遮阴有利于黄顶菊出苗,但是出苗不整齐,是造成黄顶菊入侵性强的一个重要因素.随着光照强度的增强,两种植物净光合速 率(P ) 、光化学猝灭(q ) 、PS Ⅱ电子传递速率(ETR)、实际量子产量(Y ) 、非光化学猝灭(q ) 、水分利用效率(WUE)、茎生物量 n P ield N 比(SMR)、冠宽(CW)和干物质积累量(DM)都增加,而比叶面积(SLA)降低;黄顶菊叶生物量比(LMR)显著增加,而藜不显著;黄顶 菊DM增幅比藜的增幅高.80%遮阴下,藜P 和DM都高于黄顶菊. 自然光下,黄顶菊P 、q 、WUE和相对竞争强度(RCI)最高,混种 n n N 黄顶菊CW、DM和混种藜P 、Y 显著低于相应的单种处理.黄顶菊的光饱和点(LSP)和光补偿点(LCP)均比藜高.因此,黄顶菊耐 n ield 阴能力比藜弱,两种植物都是通过增加SLA和降低LMR来适应弱光;黄顶菊适应强光的能力大于藜, 自然光下混种黄顶菊增加 SMR和降低CW来提高竞争力. 关键词 黄顶菊 净光合速率 叶绿素荧光 生长特性 相对竞争强度 中图分类号 Q945.79 文献标识码 A Effects of shade and competition of Chenopodium album on photosynthesis, fluorescence and growth characteristics of Flaveria 1 1 1 1 1 2 1 bidentis. YANG Qing , LI Jing-shi , GUO Ai-ying , QI Yan-ling , LI Yan-sheng , ZHANG Feng-juan ( Department of Life Science 2 Technology, Hebei Normal University of Science