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基于PLC的硅片清洗机电气控制系统设计题目说明及任务 太阳能光伏产业的迅速发展，使得我国太阳能硅片清洗设备的发展举世瞩目，并呈现稳定增长势头。伴随着硅片的大直径化,器件结构的超微小化、高集成化,对硅片的洁净程度、表面的化学态、微粗糙度等表面状态的要求越来越高，主流工艺已经在从90nm向65nm过渡。太阳能电池板铝边框冲孔模设计高集成化的器件要求硅片清洗必须减少给硅片表面带来的破坏和损伤,减少溶液本身或工艺过程中带来的玷污。而太阳能清洗设备也正向着小型化、非盒式化及一次完成化方向发展,以减少工艺过程中的玷污,满足90nm乃至65nm级器件工艺的要求。这无论对清洗工艺还是对清洗设备都是一个极大的挑战,传统的清洗方法已不能满足要求 江苏林洋新能源有限公司采用的是深圳捷佳创精密设备有限公司的硅片清洗设备，本设备是一个全自动的处理设备，清洗过程由系列PLC控制，操作员通过10.4英寸彩色触摸屏控制生产。 图 1-1硅片清洗机的结构图 硅片清洗机的操作台面如图1-2所示，其操作高度为850mm,适合于身高为1.5m到1.8m的人员操作，且其两侧具有透明活动玻璃门，可以防止门外的不洁净空气进入门内影响硅片的洁净度，和防止门内的酸碱气体溢流出门外而影响周围的工作人员。且其各槽的材料都具有耐酸耐碱性，各主要参数见表1所示。 图1-2 台面布局图 表1 各槽位主要技术参数 槽 体 工位1# 工位2# 工位3# 工位4# 工位5# 工位6# 介 质 有机槽 弱酸3 弱酸 DIW DIW 酒精 功 能 腐蚀、气鼓泡 腐蚀、超声 加热 腐蚀、加热 超声 喷淋、漂洗、 快排 漂洗、溢 液、鼓泡 漂洗、超声 温 度 RT 55±2℃ 55±2℃ RT RT RT 槽 盖 SUS316 SUS316 PTFE / / SUS316 材 料 SUS316 SUS316 石英+NPP NPP NPP SUS316 二、 系统的动作过程及对自动控制的要求 1、 动作过程及控制要求 （1）整机 PLC/OUCH SCREEN 带有安全保护装置 ，设备地步配有，防漏盘， 电控箱正压装置。在设备通电源后，所有排风系统立即运作，排风压力，风量可以根据实际情况手动调节而到达最佳效果。排水/废液系统均为废液分别单独排放，废水统一排放，且各接头均为活性炭连接。 （2）1#有机槽 要求注液方式为手动加入，排液方式为电控气动阀控制，单独管道排放，设有工艺计时功能，在00：00—60:00min内可调（以下各槽都有此功能下面不再作详述），当到达设定次数后声鸣报警，屏幕显示完成提示。触摸屏上设有选择是否显示药液作业次数功能，技术最大次数为99次，到达设定作业次数声光提示换液(以下各槽都有此功能，下面不再作详述)。 （3）2#弱碱槽 要求注液方式为手动加入，排液方式为电控气动阀控制，单独管道排放，利用投入式PTFE加热器加热，当加热温度在60度可调，由专用控制器控制，当温度高于设定值便停止加热。此槽配有两个液位传感器，防止当液位过低加热和液位过高，保护超声系统和防止干烧。 （4）3#弱酸槽 要求内槽为手动，外槽位自动供液，排液方式为 外槽排放由手动阀控制，内槽由气缸排放，气动阀自动控制，内外槽均利用投入式加热器加热，加热温度在60度内可调，由专用控制器控制，当温度高于设定值便停止加热，槽内配有两个液位控制器，防止液位过高和过低加热、无液体超声以及报警功能。 （5）4#、5#清洗槽 5#槽为自动供水，无液位传感器，当液位达到一定高度时会开始将满的水溢流到4#槽，到达4#槽溢流液位时，会溢流到机台的下方的水槽里然后通过排水道排出。 （6）6#酒精槽 该槽为超声波清洗槽，当液位达到超低液位且6#槽感应到槽中有料时，自动启动超声波发射器对槽中该物料进行超声波清洗。 2、主要电气控制元件及设备 主要电气控制元件及设备如表2所示. 表2主要电气控制元件及设备 元件名称 数量 规格型号 元件及设备类型 触摸屏 1台 8寸 DOP-A08MT 输入输出设备 液位传感器 7个 Jyd-714 输入 温控器（超高报警） 3 个 OMRON ESCZ-Q2MT 输入及控制 电磁气动阀 14个 2v025 输出 2＃碱槽超声装置 1套 CS-NR 24v,1200W, 输出 3＃酸槽超声装置 1套 CS-NR 24v,800W 输出 6＃超声槽 1套 CS-NR 24v,800W 输出 2＃碱槽电加热器 1套 4KW, 二相 380V 50Hz 输出 3＃酸槽内外加热器 1套 1.5KW,4KW, 二相 380V 50Hz 输出 蜂鸣器 1 个 XB2BSMC 输出 温度控制器控制温度超温，使温度一直恒定在设定值上其误差为±