行业标准《硅单晶腐蚀片》.DOC

行业标准《硅单晶腐蚀片》 （送审稿）编制说明 工作简况 立项目的和意义 硅单晶产品已广泛应用在电子工业和能源领域，优质的硅材料产品不仅取决于硅单晶的拉制工艺，而且与硅单晶后期加工过程密切相关。当前硅基半导体材料以多种形式应用在各类高新技术产业中，传统的硅单晶衬底材料主要以切片、磨片、抛光片为主，以上几种硅单晶片形式满足了不同类型的半导体材料和器件的需要。近年来，随着产业的发展和技术的进步，硅磨片和硅抛光片的中间产品－硅单晶腐蚀片以其较磨片更优的性能、较抛光片更低的成本和加工产业链短等特点越来越被重视，以腐蚀片作为终端衬底材料的太阳能电池片、整流器件、二极管、三极管等在电力电子、汽车电子、能源等领域得到广泛应用，但目前硅材料标准中只有磨片、抛光片等产品标准，没有腐蚀片的相关标准。切割片、研磨片和抛光片标准中，对硅片的几何参数和宏观的表面参数进行了一定的规范，但是对硅片表面的微观性能的定义规范较少，制定《硅单晶腐蚀片》的行业标准，能进一步补充半导体硅材料产品标准体系，有利于规范、指导硅单晶腐蚀片的生产，促进产业的进步和发展。 任务来源 根据《工业和信息化部办公厅关于印发2014年第三批行业标准制修订计划的通知》（工信厅科函[2014] 628号）的要求，由天津市环欧半导体材料技术有限公司负责《硅单晶酸腐片》的编制，项目编号：2014-1459T-YS，要求2015年完成。2014年11月在江苏徐州召开的任务落实会上中，经过与会的行业技术人员讨论，决定将硅单晶碱腐片也纳入到标准中，因此将标准名称由“硅单晶酸腐片”更改为“硅单晶腐蚀片”。 项目承担单位概况 本项目承研单位天津市环欧半导体材料技术有限公司，成立于2000年，其前身是天津半导体材料厂，成立于1958年，是我国最早的半导体材料专业生产厂家之一，拥有50余年的半导体材料生产历史和专业经验，公司目前注册资金30000万元。2003年以来，企业的经济效益连续数年持续稳定增长。2000年9月以来环欧公司被认定为高新技术企业，公司产品由公司独立开发和生产，形成了以区熔单晶硅、直拉单晶硅、区熔硅片、直拉硅片四大系列产品，拥有国家授权专利67项，受理和实质审查阶段50项，是国内同行业中单晶硅种类齐全的少数几家之一。环欧公司生产的MCZ和FZ硅单晶晶棒和硅片远销俄罗斯、德国、美国、日本、台湾等国家和地区。 环欧半导体材料技术有限公司自2007年开始开发硅单晶酸腐片，自2009年开始开发研制碱腐蚀片，掌握控制酸腐片粗糙度和碱腐蚀片大腐蚀纹的专利技术，公司开发的酸腐蚀片产品主要出口德国、澳大利亚、美国和台湾等地区，是行业内比较知名的英飞凌公司、美国力特公司、欧洲恩智浦公司的酸腐蚀硅片的主要供应商。 主要工作过程 本项目在下达计划之日起，在环欧半导体内部召开了关于标准起草的工作会议，布置了标准起草的相关工作，产品测试和数据收集等工作。2014年月日，全国有色金属标准化技术委员会在2014年12月～2015年3月，编制组根据江苏徐州任务落实会确定的起草原则，对我国目前生产硅单晶产品的相关企业进行调研和统计，参考国内外相关标准，如GB/T 12965 《硅单晶切割片和研磨片》，同时增加了硅单晶腐蚀片表面状态的性能参数，、 GB/T 20503《铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜镜面反射率和镜面光泽度的测定 20°、45°、60°、85°角度方向》等，同时结合企业的一些技术指标和检验数据起草了本标准的初稿。2015年4月，起草单位将初稿发送给编制组其他成员征求意见，经过编制组的多次讨论和修改形成了讨论稿。 201年月，全国有色金属标准化技术委员会在与会专家对标准的讨论稿进行了认真、热烈的讨论，2015年月，全国有色金属标准化技术委员会在与会专家对标准的稿进行讨论， 标准编制原则和确定标准主要内容的论据 编制原则 本标准起草单位自接受起草任务后，成立了标准编制组负责收集生产统计、检验数据、市场需求及客户要求等信息，初步确定了《硅单晶腐蚀片》标准起草所遵循的基本原则和编制依据： 1）查阅相关标准和国内外客户的相关技术要求； 2）根据国内硅单晶腐蚀片生产企业的具体情况，力求做到标准的合理性和实用性； 3）根据技术发展水平及测试数据确定技术指标取值范围； 4）按照GB/T 1.1和有色加工产品标准和国家标准编写示例的要求进行格式和结构编写。 确定标准主要内容的论据 本标准结合我国行业内硅单晶腐蚀片的实际生产和使用情况，考虑硅单晶腐蚀片的发展和行业现状制定而成。 硅单晶片产品主要有切割片、研磨片、腐蚀片和抛光片等几大类，当前除了腐蚀片外，其余产品均有相应的标准，长期以来，腐蚀片作为硅单晶片产业链中的中间产品，主要用在抛光片前的化学减薄，其性能参数没有引起足够的重视，近年来随着行业发展和技术的进步，腐蚀片作为终端产品