超纯水制备系统设计.PDF

维普资讯 斛 ．徘 超纯水制备系统设计 丫胛 G 超纯水的两大用户是制药工业和电子工 有些系统用井水或 自备水源水。原水要求达 业，水质要求如下： 到饮用水标准。纯水制备分了步．即预处理、 制药工业 基本处理和用水点处理。根据原水水质确定 项 目 要求 预处理单元。基本处理单元一般包括离子交 DH 5．0—7．o 换和反渗透。用水点处理的目的是把经基本 氯化钧．m L ≤0．5 处理单元后的纯水在实际使用前进行精处 奠醴盐．州 L ≤1．0 氟．m L ≤0．1 理 。 鸯，m L ≤1．0 半导体厂用纯水制备流程； =氧化础．mg／L ≤5．0 原水一砂滤一碳滤一微滤一高压泵一反渗透 重金属 ．rag／Lus橱计 ≤0．1 一 一 可氧化物质 通过药典高锰睦押试验 ’ i 总同悻．m L ≤l0 一脱气一水箱一紫外一混床 水箱一紫外一 J 细菌总教e~u／mL ≤100 -‘。。。。。一 一 一 热漂 无 精混床一傲滤一紫外一超滤一用水点 一 制药厂用纯水制备流程： 注 ：c[u(OOLONYFORMINGUNIT)菌落形成单位。 原水一加氯 砂滤一炭滤一紫外一泵一复床 电子工业 (E一1级) ▲ ～ ——j 璃 目 要求 离子交换一混床一微滤 紫外一微滤一热水 约 is(95％时问． ● 电阻率．Mfl·cm 不低于 l7．O， s (总)，最大．嵋，L 5 箱 (通入蒸气)一泵一用水点 ～ 每mL曩鞋数 预处理单元 通常包括氯化、除铁除锰， 曩粒大小极限．m 0．10 凝集沉淀过滤、活性炭处理和软化。 能生存的蛔菌敖．量大，cfu，L l 锌．量