低压化学气相沉积模型与模拟.pdfVIP

摘要 Electric-Mechanical MEMS(Micro System)是具有战略意义的前沿高技术，是未来的主 导产业之一。MEMS工艺处在整个MEMS设计的最底层，工艺的好坏直接影响到MEMS 器件的性能、设计的成败。使用工艺模拟软件不仅能够节约设计成本，还能缩短设计的时 间，已越来越多的受到用户的青睐。在MEMS工艺领域已经存在一些模拟软件，但这些软 件在与具体生产线结合时还存在较多的问题。尤其在国内，这一领域还处于空白。因此开 发一套能与工艺线相匹配的模拟软件显得越来越迫切。 工艺分为很多步骤，沉积是其中重要得一环，沉积包括物理沉积和化学沉积。化学沉 积又可分为常压化学沉积(APC、fD)、等离子体化学沉积(PECVD)和低压化学气相沉积 (LPCVD)。由于LPCVD在优化台阶覆盖上具有优势，因此被广泛的研究和使用。LPCVD 过程比较复杂，对其内部反应机理还存在很多不同的见解，虽然现存的LPCVD模型较多， 但在研究具体台阶形貌时都具有一定的局限，因此必须首先选择一个与实验较为接近的模 型，然后再将模型转化为模拟软件。 CAD。接着介绍了MEMS沉积工艺中常见的 论文首先简单的介绍了MEMS和MEMS 各种方法，着重介绍了LPCVD的模型和常用的模拟算法。通过对参考文献实验数据的计 算，验证了一维沉积模型的正确性，然后分析气体反应机理，在一维模型的基础上提出了 一个二维模型。这个模型将沉积分解为源气体沉积和中间气体沉积两种反应的结合，将台 阶覆盖的变化归结为源气体的分解比例A。最后使用c++编程，优化算法，完成了一套能 对沉积模型进行较为精确模拟的软件。软件能够很好的模拟由于A值变化带来台阶覆盖的 变化，以及在A值一定时，对不同深宽比沟道进行沉积时的轮廓。通过实验可以测定不同 工艺条件下的A值，因此使用软俘就可以得到任意条件下的模拟结果，将模拟结果与实验 结果，两者能较好的吻合。 关键词：MEMS，低压化学气相沉积(UcVD)、计算机模拟、 Abstract MicroElectric-Mechanical in tech isone System(MEMS)isveryimportanthigh field,it ofthemain the isOilthebottomof industriesin future．MEMS theMEMS process design,it decidesthe oftheMEMSdevicesandtheeffectofthe ofthe performance design．Theusing simulationsoftwarecancutthe costandshortenthe time．Nowwe process design design already few softwarein havea simulation theMEMS thesesoftwarestillhas field,but process problems when forthe at fihu：lisblank．Soitis home,this fitting productlines．Especially veryimminency