真空蒸馏是利用元素间的沸点差异和蒸汽压的差异,在一定温度和真空 .docVIP

真空蒸馏技术在低熔点金属提纯中的应用 夏雯， 刘淑凤, 张丽民 (北京有色金属研究总院 分析测试中心, 北京 100088) 摘 要：真空蒸馏方法以其流程短、消耗少、对环境无污染等优点，成为高纯金属，特别是低熔点金属的研究和工业生产中的最主要的方法之一。本文综述了真空蒸馏技术在高纯金属提纯方面的现状与前景，详细介绍了真空蒸馏技术的分馏机理和影响因素，包括饱和蒸气压、分离系数和蒸发速率三个方面对真空蒸馏提纯效果和效率的影响。本文还介绍了真空蒸馏技术在高纯金属铋、锑、铟三种低熔点金属的制备中的应用，并探讨了采用多种方法联合提纯获得超高纯金属的可行性，通过真空蒸馏与区域熔炼两种方法相结合制备了纯度大于99.9999%的超高纯铋。 关键词：真空蒸馏；蒸气压；分离系数；蒸发速率；高纯金属 The application of vacuum distillation technology in purification of low melting point metals Xia Wen，Liu shufeng，Zhang limin (Metals Analysis and Testing Center, General Research Institute For Nonferrous Beijing 100088) Abstract:Vacuum distillation method is considered to be one of the most important purification method on metals, especially low melting point metals, because of its short process, less consumption, environmental pollution and other advantages. The Present and Future of vacuum distillation technology in high purity metal Purification are described in detail. It introduces the technique of vacuum distillation fractionation mechanism and influencing factors in this article, including three factors: saturated vapor pressure, partition coefficient and the evaporation rate. This article also describes the vacuum distillation technology used in the low melting point metal bismuth, stibium, indium Purification. The feasibility of using a variety of methods to purify ultra-high purity metals was discussed, super high purity bismuth(99.9999%) is prepared by the process combined vacuum distillation with zone melting purification. Key words：vacuum instillation；vapor tension；apart coefficient；vaporizing rate; high purity metal 随着国民经济的发展，特别是半导体行业的飞速进步，高纯金属的研究和生产也得到了迅猛的发展，同时对金属纯度的要求也越来越高，特别是铟、铋、锑等低熔点金属在半导体行业中是不可或缺的原料，若存在有害杂质，将严重影响到半导体器件的电性能。半导体行业对金属原料的纯度要求一般是纯度要达到4N（99.99%）以上，甚至达到6N。因此，研究低熔点高纯金属的工艺对提高金属的附加值，和促进半导体行业的发展有着重要的意义。 低熔点高纯金属的提纯工艺有电解精炼法[1]、区域熔炼法[2-4]、化学处理法[5-6]、真空蒸馏法[7-9]等。电解精炼法产量高，工业上易于生产，但纯度相对较低；区域熔炼提纯是利用同温度下杂质元素在固、液两相组成不同这个条件，使得基体与杂质分离从而达到提纯的目的，提纯纯度高，但产量小，可以用于制备超高纯金属；化学处理法是通过加入化学添加剂通过氧化还原等一系列反应合成出高纯金属，该方法纯度高，但存